二手 VG SEMICON / OXFORD V100 #293615569 待售

VG SEMICON/OXFORD V 100是一种分子束外延（MBE）设备，主要用于半导体材料的薄膜沉积在硅或砷化的底物上。它采用两级源排列，顶部为高温反应物源，底部为低温源。在真空条件下，在~ 3 × 10^-7 torr的压力下进行沉积。在这个系统中，有两个半球透镜将分子光束聚焦在样品表面上，以及用于反应物源和生长室的加热/冷却线圈。OXFORD V 100配备了多种过程控制仪器，如压力测量单元、原位石英晶体微天平（QCM）、吸氧机、原位反射仪和石英晶体温度计。原位QCM用于测量薄膜的质量沉积速率和组成，而原位反射仪则用于监测表面形态。吸氧器工具可用于保持生长室内的低氧浓度，以防止沉积过程中半导体薄膜氧化。石英晶体温度计可用于监测反应物源和室内温度。VG SEMICON V100主要被MBE用于生长半导体材料如硅和砷化的薄膜。这些薄膜通常非常薄，通常只有几个原子层厚，需要非常精确地控制生长参数，以确保薄膜的正常生长。V100也适用于其他材料如砷化铝、氮化铵和氧化铝的薄膜生长。总之，VG SEMICON/OXFORD V 100是一种精密的MBE资产，可用于半导体和其他材料的薄膜的沉积。它配备了一系列仪器，以确保精确的过程控制，这是高质量胶片成长所必需的。