二手 LAM RESEARCH EP 200MMD #9141883 待售

LAM RESEARCH EPM 200MMD是设计用于微电子工业晶圆制造的高精度光学比较器。比较器是一种多轴光学测量仪器，能够精确测量半导体晶片制造过程中的关键表面特征。它与高效、高精度的旋转表相匹配,便于精确和可重复的X、Y和Z轴测量。比较器由用于测量和视觉系统的高质量光学桥式光学器件组成，提供卓越的精度和分辨率。比较器的精密光学结合了图像投影、背面背光和圆形图，便于读取和平稳操作。桥式光学器件能够从4X放大到400X,真正的测量能力从0.5 µm到1500 µm。光学数字视频接口确保了测量的可重复性，允许快速调整图像对比度、亮度、清晰度、曝光和放大倍率。比较器还提供视频捕捉和实时图像，以确保对日益复杂的表面特征进行高精度测量。LAM Research比较器利用一个集成的参考光学系统来增强光的均匀性和最大限度地减少光学像差。这有助于确保可靠和可重复的测量,并为定位目的提供可靠的参考。比较器还配备了一个先进的测量软件包，允许用户预先编程测量和自动化例行任务。此外，软件包还包括功能强大的功能，使用户能够直接从数字图像中测量和检查晶片的复杂表面特征。LAM RESEARCH EPM 200MMD采用坚固耐用的车身结构,性能可靠,使用寿命长。该比较器是为便于使用而设计的，适用于检查平坦曲面和弯曲曲面。它配备了广泛的配件，为用户提供了对晶圆进行专业级质控检查的高效手段。光学比较器的设计是为了在生产环境中承受严格的测试和校准要求，以确保晶圆表面光洁度满足屈服要求。