二手 BARON BLAKESLEE MLR-120 #142292 待售

BARON BLAKESLEE MLR-120是由Blakeslee Process Solutions开发的最先进的晶圆处理设备，旨在提供对温度、压力和其他工艺条件的精确控制。该系统能够支持各种技术，包括光刻、湿、退火、自旋涂层和其他工艺。MLR-120旨在为一系列流程创建理想且定制的环境。它提供了多种动态热和压力控制选项,允许在不同的温度、压力和时间下进行单批处理或多次运行。它有一个自动真空超压单元，内置温度控制器，以及广泛的标准温度和压力传感器。温度可以在10英寸或更大直径区域内从环境控制到1000 °C,均匀度为+/-1 °C。工艺压力也可以在10英寸区域内以+/-1/2 Torr的均匀度从0调整到10 Torr。BARON BLAKESLEE MLR-120也可以单独配置以满足特定的工艺要求。它由重型不锈钢外壳和腔室衬里以及坚固的不锈钢反应挡板和托盘构成。可移动不锈钢反应室的设计使加工更容易。腔室通过排气口排出，从而实现安全高效的操作。此外,MLR-120还提供高级软件控制,为用户提供对机器的完全控制。通过软件，用户可以轻松控制压力、温度、时间、频率和周期参数，包括预先编程的配方和要使用的序列。该软件还允许用户存储流程结果、访问生产数据和快速更改参数以提高流程性能。BARON BLAKESLEE MLR-120晶片加工工具为各种应用的晶片加工带来了速度和精度。其广泛的功能使用户能够简化流程,获得可靠且可重复的结果,并确保产品的最佳质量。