二手 BENTELER tecWasher 10/2c #9219620 待售
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ID: 9219620
优质的: 2013
Horizontal glass-plate washing machine
Pre-spraying area top and bottom:
Includes: Tank & pump
(2) Washing-sections with cylindrical brushes
(2) Tanks with pumps and heating elements
(2) Pairs of air knifes
Water-guidance standard via cascade
Motor-driven adjusting of glass thickness via control panel
Short space saving design
Transport system drive (frequency controlled)
Fan with noise insulation
Automatic throttle flap
Air filter EU 5
Fan-platform
Infeed and exit conveyors
Maximum width of glass-plate: 1000 mm
Minimum width of glass-plate reference edge: 50 mm
Minimum length of glass-plate reference edge: 148 mm
Glass-plate thickness: 1.5-12 mm
Noise level: 80+2 dB (A)
Conveyor speed (depends on glass thickness): 3 - 13 m/min
RPM Brushes: 600 U/min
2013 vintage.
BENTELER tecWasher 10/2 c是一种先进和创新的晶圆加工设备,具有清洗器和自旋烘干机模块,用于晶圆加工后的清洁和干燥。该系统专为半导体制造业而设计，为大小晶片提供批量和直列式处理。该设备配备了等离子体和蒸气相位技术（PVPT）清洁技术,为在低温/中温下清除污染物提供卓越的清洁性能。PVPT技术在40-60°C的温度下清除颗粒、异物和残留物，确保操作安全，不会损坏晶片。这样可以对晶片表面进行湿法和干法预处理,最适合低成本操作,同时优化能效和缩短周期。BENTELER tecWasher 10/2 c在一个外壳中具有两个独立的垫圈,每个垫圈都有自己独立的工艺室和PVPT清洗功能。这不仅可以同时清洗大小晶片，还可以提高机器的生产率。可选的直列自旋烘干机模块提供了更好的颗粒去除效率以及可根据特定晶圆尺寸量身定制的烘干机循环。该工具的紧凑设计带有可选的集成流程线控制,可集成到现有的清洁室环境中。触摸屏和PLC面板使用户能够轻松地进行控制,可以根据特定的流程要求进行编程。综合预防性维护群集通过提供专门的"洗涤和自旋干燥"服务方桉确保最高质量的清洁，在必要时更换消耗品。最后,数字数据记录资产将所有关键操作参数存储在中央数据库中,以进行安全访问和监视。这允许跟踪和详细分析流程周期性能,从而允许进一步优化流程或诊断操作问题。总体而言,BENTELER tecWasher 10/2 c是高效晶圆处理的强大模型,提供卓越的清洁性能、优化的工艺时间和高效的工艺管线控制。它在一个紧凑的和集成的设计特点的组合，使其最适合于半导体和晶圆相关的处理。
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