二手 OERLIKON / BALZERS Vacuum chamber #293812085 待售

ID: 293812085
Vacuum chamber Used for ion milling Busch dry pump Leybold 2200 CT Turbo pump with Mag Drive controller MKS Type 247 four-channel controller (4) 20 Standard Cubic Centimeters per Minute (SCCM) MKS Mass Flow Controllers (MFCs) 22 cm Plasma Process Group (PPG) linear ion source (3-grid) Ion neutralizer I-beam power supply, Radio Frequency (RF) match Radio Frequency (RF) tuning box Ion probe with graphite block and drive motor (4) Individual pressure gauges.
BALZERS是一家有信誉的公司,专门研究先进的真空涂层技术,其OERLIKON/BALZERS真空室设备设计用于晶圆加工应用。该系统在半导体工业中起着至关重要的作用,使薄膜在晶片上的精确沉积能够增强其性能和功能。在此全面的技术概述中,我们将深入探讨为晶圆加工量身定制的BALZERS真空室的关键特性、规格和优点。OERLIKON Vacuum Chamber的设计采用了最先进的技术,以满足现代晶圆加工要求的严格要求。腔室由高质量的材料构成,在涂层过程中保证高真空完整性和热稳定性。其创新的设计最大限度地减少了污染,并允许在整个晶片表面均匀沉积薄膜,确保了一致的性能和质量。真空室的一个突出特点是其先进的泵送装置,利用涡轮分子泵和低温泵来实现精密薄膜沉积所需的超高真空水平。这种高效的抽水机可加快抽水时间,提高整个过程的生产率。此外,该室还配备了先进的压力监测和控制系统,以确保最佳工艺条件和可重复性。OERLIKON/BALZERS Vacuum chamber的设计可以容纳各种晶圆尺寸和配置,使其在半导体工业的不同应用中用途广泛。其灵活的设计允许与其他晶圆加工设备(如溅射和蚀刻系统)轻松集成,创建一条全自动生产线。该室的用户友好界面和软件控制工具为操作员提供了直观的控制和监控能力,便于设置和调整过程参数。除了技术能力外,BALZERS真空室还提供了一系列有助于其整体价值主张的好处。资产的高吞吐量和高效的过程控制有助于降低生产成本和提高收益率,使其成为高容量晶圆处理的经济高效的解决方桉。其先进的自动化功能最大程度地减少了操作员的干预,降低了人为错误的风险,确保了一致和可靠的性能。此外,OERLIKON真空室的设计考虑到了安全和环境方面的考虑,其中包括废气处理系统和节能组件等特点,以尽量减少对环境的影响。OERLIKON对可持续性的承诺体现在其真空室的设计和操作上,使其成为半导体制造商努力减少碳足迹的负责任选择。总体而言,OERLIKON/BALZERS Vacuum Chamber是晶圆处理应用的前沿解决方桉,提供卓越的性能、灵活性和效率。其先进的技术、可靠的操作和经济实惠的优势,使其成为希望提高生产能力、在晶片上实现更高质量薄膜涂层的半导体制造商的理想选择。凭借OERLIKON/BALZERS的专业知识和支持,客户可以信任BALZERS真空室的可靠性和性能,以满足其最苛刻的晶圆加工要求。
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