二手 SEMICS Opus II #9242895 待售

SEMICS Opus II是SEMICS International, Inc.为半导体制造应用而设计的先进探测设备。Opus II是一个灵活、高度自动化的系统,它以非常高的精度提供高级探测解决方桉。它具有自动化、高精度的模具和晶圆处理单元,最大工作面积为200 mm x 300 mm。SEMICS Opus II也有一台高精度的线性级机，用于将探头跨晶圆移动，以及一台高性能的主轴电机，用于精密铣削和研磨操作。Opus II能够探测各种类型的材料，包括铝、铅、玻璃和铁氧体。利用其特殊的操控工具，它可以以高达30mm/s的速度轻松移动高达30磅的载荷。它的紧密公差允许它达到0.2um的分辨率，同时提供高达50牛顿的力。它还包括一个集成的零件检查软件工具,它可以通过动态3D视图深入了解切割过程。SEMICS Opus II具有多项特定功能，旨在最大限度地提高产能和精度。它包括一个集成的视觉资产，可以检测微缺陷和抄写不影响过程的线条。它还具有获得专利的非接触式电位计，允许用户进行可调节的接触，以及用于探测精度的实时反馈模型。除此之外，Opus 2还包括一个机械臂，设计用于支持手动操作的工具。此臂可针对各种工作应用进行调整,并能够旋转、选择、收集和定位工件。机器人手臂由七个关节组成，可达到15m/s的最大工作速度。此外,它还包括一个先进的力管理设备,帮助防止设备损坏在操作过程中.集成的Opus II高级测试/验证系统提供了一整套基于矢量的、信号分析和视觉诊断。它最多可分析256条路径，并具有广泛的示波器、功率谱和逻辑数据分析能力。该单元还包含专门的测试仪器，如精密六英寸探针、精密四英寸探针、高精度线性级以及复杂的逻辑/数据计时器。这台机器能够对微米级特征进行精确的测量，还可以分析数据以检测潜在故障或制造过程中的潜在错误。SEMICS Opus II是半导体生产非常有利的工具。既能提高产能和精度，又能提高产量、降低成本。这是由于其自动化的工具、高精度的线性级以及其集成的测试/验证系统。