二手 SEMICS Opus II #9407025 待售

SEMICS Opus II是一种自动化的prober设备，设计用于晶圆探测、元件分选和模具预粘合。它利用机电功能、高精度和自动化的组合，在各种晶圆处理应用中提供可靠和可重复的结果。该系统包括一个基站、一个操作员控制台和四个定位器，以及独立的探测/分类/处理室。定位器可容纳直径250至590毫米的晶圆，厚度可达4.7mm，倾斜度和高度可调。它们还可以处理大于物理prober尺寸的晶片，从而可以对可用的最大晶片进行高效探测。基站容纳了定位器的垂直和水平运动控制，允许以高达10m/s的速度进行精确的移动和定位。定位器配备了具有实时图像和缺陷识别功能的CCD摄像头，以及用于模具对准的激光测距仪。探测单元提供分辨率为0.5um的高精度测量。它配备了双探头，允许同时扫描晶片两侧，并将同一个探头重新用于多个应用。拾取和放置磁带处理机允许晶圆处理和模具分选。该工具支持广泛的探针卡配置，包括部分和全柱接触、标准和标线接触、3和6接触、1和2手指以及可编程接触。使用的杆可以容纳不同的角度、宽度和长度，以及变化的接触力。该软件允许用户进行自定义测试程序开发，并支持多种语言，如C、C++和FORTRAN。该资产具有一个多功能的光学、电气和机械隔离模型，用于噪声免疫，确保了最高的测量精度。此外，设备本身具有抗振动和抗震性能，适合恶劣的工业环境。总之，Opus II是一个健壮、可靠、可重复的prober系统，具有晶圆探测、元件分选、模具预键等一系列特点。它通过机械、电气和光学功能的组合实现高精度测量,适用于最困难的工业环境。