二手 AG ASSOCIATES 4100 #9146374 待售
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ID: 9146374
晶圆大小: 3"-6"
Rapid thermal processors (RTP), 3"-6"
Includes:
Heating chamber: Two high intensity tungsten-halogen lamp arrays
System controller
Quartz isolation tube
Robot
Gas-control electronics
ULAP Filtration-system
Graphic user interface (GUI) computer system
Electronics
Mass-flow-controlled gas handling
Cooling
ULPA Filtration
Mechanical assemblies
Extended range pyrometer (ERP)
Recipe storage: 3-1/2" Floppy disk-drive
Options:
Non contact wafer aligner
Susceptor autoloader
E-SECS
Slip free
Dual-color pyrometer
Applications:
Silicon dielectric growth
Implant annealing
Glass re-flow
Silicide formation and annealing
Nitridation of metals
Contact alloying
Oxygen donor annihilation
Standard cassettes
Wafer handling: Automatic serial processing
Throughput: Process dependent
Ramp-up rate:
Programmable
Range: 1 – 180°C Per second
Steady-state duration: 1 – 600 Seconds per step
Ramp-down rate:
Programmable
Temperature
Radiation dependent
Range: 1 – 180°C Per second
Maximum: 150°C per second
Recommended steady-state temperature range: 400 – 1200°C
ERP Temperature accuracy: +5°C to -9°C
Calibrated against an instrumented thermocouple wafer (ITC)
Temperature repeatability: + 7°C
Temperature uniformity: + 10°C
Includes: Manuals.
AG ASSOCIATES 4100是为各种处理应用而设计的快速热处理器。这种最先进的设备设计用于散热、退火和晶体生长。其温度范围从-50C到+800C,样品足迹高达14 "x 14",晶圆间距低至2mm。该系统包括一个专有的快速热传输单元(RTTS),具有独特的热边和冷却片,以确保高温均匀性和快速样品传输。这台机器具有强大的控制器和直观的软件,能够轻松编程和高吞吐量操作。它还具有一个大功率红外灯,允许快速的温度斜坡和快速循环时间。整个工具被封闭在一个温度和湿度控制室内,以确保可重复的过程结果。该资产采用不锈钢加热元件,并为用户提供定制加热配置文件。它还装有安装在基板支架上的热敏传感器,用于监测样品的温度。这允许用户根据其应用程序的需要定制热配置文件。4100是为研究、生产和工业而设计的高端车型。它提供了多种不同的应用,包括退火结晶、扩散、扩散屏障沉积和杂质掺杂。也适用于工业炉、回流炉和快速热闪等应用。总体而言,AG ASSOCIATES 4100是一种针对各种处理需求而设计的先进工具。它提供了一个通用的,温度控制的腔室和快速热传递设备,允许快速样品处理。该系统具有直观的控制器和可定制的加热配置文件,是满足各种研究和行业需求的理想解决方桉。
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