二手 ALLWIN21 AW B3000 #9201806 待售
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ID: 9201806
晶圆大小: 8"
Plasma asher / Descum equipment, 8"
Production-proven plasma stripper
Consistent wafer-to-wafer uniformity
Main body with wires
Control box
Keyboard, mouse
Transformer, circuit breaker, contactor
Cables
EMO, interlocks and watchdog function
Quartz chamber: Diameter 12” x depth 23”
Main control: PCB and DC
Main body of tools:
RF Match network integrated
Chamber door with quartz plate
Gas and vacuum lines connections
Options:
End-of-process (EOP)
Throttle valve for pressure control
Air-cooled RF generator
Thermocouple: Chamber temperature
Vacuum pump
Lamp tower alarm with buzzer
Main vacuum valve
MKS Baratron
Throttle valve
Touch screen GUI, 15"
High throughput: Up to 75 WPH
Gas Lines: Up to 5 isolated gas lines with MFCs
Asher rate: 0-0.1u/min
Positive PR: >0.2u/min
Negative PR
Uniformity: Up to 25%
Particulate: <0.05 /cm2
Selectivity: >1000:1
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Plasma power: Air-cooled RF 13.56MHz
TC Option:
N2 Plasma: Up to 170°C
Types:
Barrel / Batch
Desktop
Stand alone
Wafer loading: Manual.
ALLWIN21 AW B3000是一种快速散热处理器,其设计质量最高,精度最高。它利用先进的技术提供了从工艺到产品的快速热传递,并为过程控制提供了对温度、时间和大气的卓越控制。该设备采用先进的高温快速热处理器控制，在加工过程中提供准确的热控制。AW B3000支持高达2,700 °C的工艺温度,以及用于精确控制的低噪声环境。它还具有高防护性设计，具有高温灭火室，可快速传输。处理器结合了开放式管腔设计，在处理过程中允许更大的灵活性和大气控制。ALLWIN21 AW B3000配备了直接加热系统，使整个加热室均匀加热。它还确保在不同级别的腔室上均匀的温度分布。温度的精确控制和可重复性通过一个复杂的温度监测和控制单元得到促进。它允许+/-1°C的热控制精度和0.001秒的时间控制精度。为了进一步确保温度的均匀性和快速反应时间，温度控制机用曝光快门工具增强。该资产还允许用户准确控制每个处理步骤的曝光时间和曝光次数。该模型还包括可定制的晶片提升器，用于晶片和基板的快速装卸。还有一个先进的自动晶片识别设备，可以进行精确的晶片加载和识别。此外，该系统还配备了自动化的数据记录和报告，用于实时分析和反馈。AW B3000是一款功能强大且精确的行业标准快速散热处理器。它具有卓越的精确度、精确度和处理速度,具有先进的温度控制和报告功能,以及可定制的提升和悬挂系统,便于晶圆和基板装卸。
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