二手 AMAT / APPLIED MATERIALS RTP Chamber for Centura XE+ #293586795 待售

ID: 293586795
晶圆大小: 8"
8" 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS RTP Chamber for Centura XE+是一种快速热处理器,旨在为各种半导体器件的晶圆进行精确处理。该腔室是一种高性能的解决方桉,用于需要精确控制温度、时间和其他参数的电气和电子应用。RTP腔室精密可靠,温度读数精确,时间控制精确,操作方便。它采用铝合金标准加热板设计,工艺气体种类繁多,工艺控制功能精准。加热板设计用于在晶圆表面保持精确甚至均匀的温度。可用的加工气体范围允许各种晶圆工艺,包括氧化、退火和其他热处理。该腔室还设计用于支持真空和压力过程。RTP Chamber还带有先进的安全功能,如过电流保护和安全关闭开关。安全功能可防止误操作、短路和过热,确保晶圆处理的准确性和安全性。该室还配备了数字控制系统,允许精确的过程控制和易于调整。RTP Chamber也是为低功耗而设计的,使其成为一系列应用的节能解决方桉。该室也是低维护,具有低气味的设计和最小的清洁需要。此外,该室的设计允许无化学物质清洁,确保其安全使用,并消除对危险化学品和长时间清洁周期的需求。除RTP室外,AMAT还提供额外的附件和设备,以确保晶圆处理成功。例如,Centura XE+腔室清洁套件提供清洁器、盖子和干燥系统的系统,以确保腔室在每次使用后得到清洁和干燥。这样可以确保正确去除所应用的化学溶液,防止任何污染或缺陷。此外,APPLIED MATERIALS还提供额外的固定式加热块、站控制和软件,可用于为特定晶圆工艺定制腔室。总体而言,AMAT RTP Chamber for Centura XE+是一款先进而精确的快速散热处理器,适用于各种应用。其精确的温度控制、节能的设计、低功耗、先进的安全特性,使其成为一系列电子和电气应用的理想选择。有了额外的附件和一系列的工艺气体,RTP腔室可以定制用于各种薄膜沉积工艺和处理。
还没有评论