二手 KORONA RTP-1200 Plus #9411492 待售

KORONA® KORONA RTP-1200 Plus快速热处理器是一种高性能、模块化的快速热处理器,能够对半导体晶片进行快速热处理（RTP）和快速热退火（RTA）。处理器具有恒定速率、高温、四区水平炉、真空负载锁和带双套冷却线圈的强制空气冷却设备。处理器还能够就地实时重组沉积。四区恒速直热处理器设有快速热室。四个烤箱室用独立调节的电源加热，允许传统或先进的RTP或RTA配方。这四个区域分别加热和冷却，可以按顺序或同时操作。处理器能够在不到30秒内将晶片倾斜,在10秒内将其冷却到用户指定的温度,并将晶片保持在明显较低的温度。为确保RTP-1200 Plus的精度和可重复性，基于PLC的控制系统采用了先进的工艺温度监测和控制。该装置设计用于监测和控制整个工艺室的温度，包括上下加热器。控制机还具有独立监测和控制每个区域温度的能力。真空负载锁定工具有助于保持精确控制的处理。处理器的负载锁设有目标压力控制，能够将腔室压力维持在预定的水平，使其不干扰半导体晶圆的热处理。强制空气冷却资产确保了从工艺室到环境空气的高效热传递，从而确保加工后的晶片温度保持在所需的水平。双套冷却线圈用于实现晶片的高速冷却。KORONA RTP-1200 Plus还具有进行现场实时重组沉积的能力。处理器采用了专门设计的RTP-CVD或RTP-PECVD涂层模型，能够在一系列半导体材料上沉积均匀的薄膜。KORONA® RTP-1200 Plus快速热处理器可以在各种温度范围内处理半导体晶片,并且能够执行RTP和RTA过程。处理器配备了高度精确的控制设备、真空负载锁、四区水平炉以及双套冷却线圈的强制空气冷却系统。该处理器是任何需要可靠和高性能快速热处理器的半导体制造工厂的理想解决方桉。