二手 MPTC RTP-600XP #168733 待售
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ID: 168733
Rapid thermal processor
Specifications:
Gases: GN2, PN2, O2
Substrate: 2" Sapphire wafer
(2) MFC Controlled gas lines
With Pyrometer and type KTC
3Phase, 380V, 60Hz
Includes:
6" OD
(4) 2" Pocked silicon carbide coated graphite susceptor
For processing (4) 2" Sapphire wafer
Quartz tube
4"-6" Wafer tray
Currently crated.
MPTC RTP-600XP是一种最先进的快速热处理器(RTP),旨在满足工业和高级研究应用的严格要求。针对提高均匀性、优异的热稳定性和最小化的刀具停机时间进行了全面优化。它具有独特的多用途功能,使其能够用于极端多样的应用,如:DRAM沉积、高温固化、快速退火和介电材料填充。该设备具有先进的直接等离子体源设备(DPPS),这使得它比现场的许多其他处理系统更加可靠和高效。该系统允许快速热处理器稳定、快速地达到高达800 °C的温度,同时在整个过程中实现精确的等离子体控制和高均匀性。此外,该装置还具有位置感应、热电偶控制、气体控制和高精度温度控制等先进的安全特性。RTP-600XP包括一系列模块,每个模块都能够执行特定任务以实现自定义方便。热区可实现加热和冷却的均匀作用,而真空室则可确保基板的精确对准。此外,湿蚀刻室允许清洁和蚀刻基材。该设备具有高级算法和显示功能,允许用户轻松查看和控制其流程。基板定位器是可调的,在操作过程中提供了灵活性。该设备设计易于使用和维护,具有坚固的结构和材料组成。MPTC RTP-600XP是任何工业或高级研究应用的理想选择。其直接的等离子体源单元、灵活的模块化机器和精确度使其成为当今市场上最可靠、最高效的热处理器之一。它不仅提供了广泛应用所需的性能和准确性,而且还以紧凑且易于管理的形式提供了性能和准确性。
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