二手 STEAG / MATTSON / AST Helios #9219516 待售
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ID: 9219516
晶圆大小: 12"
Standalone rapid thermal processing (RTP) system, 12"
Process: RTA / Spike anneal
Process pressure: ATM
Process temperature: 115°C
Clean room interface: Front interface with (3) loadports
Front end configuration: Ball room
Platform:
Loadport type: TDK
Loadport model: TAS300
FOUP Reader: RFID
Automation: OHT (E84)
GEM Ethernet (HSMS)
MMC MATTSON P/N: 3001068
Sequencer MATTSON P/N: 17002560
I/O Controller MATTSON P/N: 17000910
(8) Cooling stations
(4) Dummy stations
Robot: RORZE 700 Dual arm:
Upper arm: Metal blade
Lower arm: Quartz blade
Process module 1:
Wafer pyro MATTSON P/N: 17001048
Lamp pyro MATTSON P/N: 17001040
Gas 3: UFC 8100, N2, 20 SLM
Gas 4: UFC 3101, N2, 150 SLM
Gas 7: UFC 8100, O2, 20 SLM
Gas 8: UFC 3101, O2, 150 SLM
Gas 9: UFC 8100, O2, 2 SLM
Low temperature controller: No
Process quartzware: Standard
Process module 2:
Wafer Pyro MATTSON P/N: 17001048
Lamp Pyro MATTSON P/N: 17001040
Gas 3: UFC 8100, N2, 20 SLM
Gas 4: UFC 3101, N2, 150 SLM
Gas 7: UFC 8100, O2, 20 SLM
Gas 8: UFC 3101, O2, 150 SLM
Gas 9: UFC 8100, O2, 2 SLM
Low temperature controller: No
Process quartzware: Standard
Electrical requirements:
UPS: Internal
Transformer power: 480 V.
STEAG/MATTS/AST Helios是一款快速热处理器(RTP)。它设计用于处理快速热退火(RTA)、快速热氮化(RTN)和快速热氧化(RTO)等多种过程。它能够以极高的控制和精度执行这些过程,使其成为半导体器件制造的一个非常有价值的设备。AST Helios具有多种特性,使其适合许多工艺需求。对于RTA和RTN等过程,它能够在毫秒内将温度升高到2000 °C。它的温度控制系统允许对整个过程中的温度进行精确的调节,使用软件的分辨率为0.1°C,使用硬件的分辨率为0.5°C。该系统还配备了热像仪,用于监测温度和检查过程中的稳定性。它还可以容纳多达8个石英晶片载流子,并支持最多100毫米晶片尺寸的加工。该装置配备了多种安全特性,使其成为半导体器件制造的可靠、安全的工具。其多传感器监控过程环境条件,为机器控制提供连续反馈。反馈确保了进程运行时的安全和一致的环境。TEC工具还设计用于处理所有安全和温度需求,并由其自身的热传感器和资产组件进行监控和隔离。控制模型还具有可配置的控制器锁和验证系统,以防止未经授权访问设备。STEAG Helios被用于商业和学术的众多行业,生产高级半导体器件。它能够提供高精度的控制和可重复的过程,使其成为设备制造的宝贵工具。其多种安全系统和热控制,以及热成像能力,使得MATTSON Helios成为许多应用的可靠和安全的处理器。
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