二手 STEAG / MATTSON / AST Helios #9219516 待售

ID: 9219516
晶圆大小: 12"
Standalone rapid thermal processing (RTP) system, 12" Process: RTA / Spike anneal Process pressure: ATM Process temperature: 115°C Clean room interface: Front interface with (3) loadports Front end configuration: Ball room Platform: Loadport type: TDK Loadport model: TAS300 FOUP Reader: RFID Automation: OHT (E84) GEM Ethernet (HSMS) MMC MATTSON P/N: 3001068 Sequencer MATTSON P/N: 17002560 I/O Controller MATTSON P/N: 17000910 (8) Cooling stations (4) Dummy stations Robot: RORZE 700 Dual arm: Upper arm: Metal blade Lower arm: Quartz blade Process module 1: Wafer pyro MATTSON P/N: 17001048 Lamp pyro MATTSON P/N: 17001040 Gas 3: UFC 8100, N2, 20 SLM Gas 4: UFC 3101, N2, 150 SLM Gas 7: UFC 8100, O2, 20 SLM Gas 8: UFC 3101, O2, 150 SLM Gas 9: UFC 8100, O2, 2 SLM Low temperature controller: No Process quartzware: Standard Process module 2: Wafer Pyro MATTSON P/N: 17001048 Lamp Pyro MATTSON P/N: 17001040 Gas 3: UFC 8100, N2, 20 SLM Gas 4: UFC 3101, N2, 150 SLM Gas 7: UFC 8100, O2, 20 SLM Gas 8: UFC 3101, O2, 150 SLM Gas 9: UFC 8100, O2, 2 SLM Low temperature controller: No Process quartzware: Standard Electrical requirements: UPS: Internal Transformer power: 480 V.
STEAG/MATTS/AST Helios是一款快速热处理器(RTP)。它设计用于处理快速热退火(RTA)、快速热氮化(RTN)和快速热氧化(RTO)等多种过程。它能够以极高的控制和精度执行这些过程,使其成为半导体器件制造的一个非常有价值的设备。AST Helios具有多种特性,使其适合许多工艺需求。对于RTA和RTN等过程,它能够在毫秒内将温度升高到2000 °C。它的温度控制系统允许对整个过程中的温度进行精确的调节,使用软件的分辨率为0.1°C,使用硬件的分辨率为0.5°C。该系统还配备了热像仪,用于监测温度和检查过程中的稳定性。它还可以容纳多达8个石英晶片载流子,并支持最多100毫米晶片尺寸的加工。该装置配备了多种安全特性,使其成为半导体器件制造的可靠、安全的工具。其多传感器监控过程环境条件,为机器控制提供连续反馈。反馈确保了进程运行时的安全和一致的环境。TEC工具还设计用于处理所有安全和温度需求,并由其自身的热传感器和资产组件进行监控和隔离。控制模型还具有可配置的控制器锁和验证系统,以防止未经授权访问设备。STEAG Helios被用于商业和学术的众多行业,生产高级半导体器件。它能够提供高精度的控制和可重复的过程,使其成为设备制造的宝贵工具。其多种安全系统和热控制,以及热成像能力,使得MATTSON Helios成为许多应用的可靠和安全的处理器。
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