二手 TEL / TOKYO ELECTRON / WAFERMASTERS 5BAO-200 #9375003 待售

TEL / TOKYO ELECTRON / WAFERMASTERS 5BAO-200
ID: 9375003
Rapid thermal annealing system.
TEL/TOKYO ELECTRON/WAFERMASTERS 5BAO-200快速热处理器(RTP)是一种前沿设备,设计用于在化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、溅射、氧化、退火、清洁和各种其他过程等广泛应用中快速准确地处理晶片。TEL 5BAO-200能够在短短30秒内快速处理从室温低到900°C的晶片。此外,此RTP还具有一个自我诊断和控制设备,以确保任何过程都能获得优异的效果。WAFERMASTERS 5BAO-200利用气动控制的腔室加热器来高效快速地加热多个晶片。此RTP采用先进的彷真技术和尖端的3-D建模技术构建,可创建一个加热腔室,一次可容纳多达200个晶圆,直径在4到6英寸之间。5BAO-200配有三个独立的质量流量比例控制系统,并具有集成的PID控制功能,能够非常精确地设置定时和温度。此外,TOKYO ELECTRON 5BAO-200的设计具有优异的性能和便利性,具有多种安全功能,包括紧急停止功能和多种备用加热系统。它由优越的材料和组件构成,这些材料和组件设计用于处理高功率剂量,从而创造出耐用且坚固的产品。此外,TEL/TOKYO ELECTRON/WAFERMASTERS 5BAO-200包括一个独特的非接触式晶片加载单元,可快速缩短循环时间并提高吞吐量。除了出色的功能外,TEL 5BAO-200还提供直观的控制界面以及远程功能,可用于机器的日常维护和管理。最后,它比同类系统能效高,耗电量少,降低成本,促进可持续性。总体而言,WAFERMASTERS 5BAO-200快速散热处理器是一款一流的设备,具有创新功能,使其成为业界的最佳选择。它高效高效地为晶片提供快速、精确的热处理,非常适合CVD、PVD、溅射、氧化、退火和清洁等众多应用。
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