二手 AGS MPS-450-RIE #9379089 待售
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ID: 9379089
Advanced plasma system
MPS-450 Base module:
Console
Chamber
SYS-RIE Power distribution
RIO Interlocks
RIO/RS232 Harness
CLP08
APC2014-PPLC Controller
Configuration options for RIE:
Electrode
RF300w Plasma source
Vacuum: 100 mm, 1CG
Pressure control, 1T
Gas deck: 5 Channels
dry pump: 8cfm-plasma
Mass flow controller options:
MFC Standard (CF4/O2)
MFC Toxic
Toxic gaspod: 6 Channels
Miscellaneous options:
Plasma source: RF600w
Plasma source: RF1000w
Dry pump: 60cfm-Plasma
Turbo package: 240lps-Plasma
Turbo package: 650lps-Plasma
Turbo package: 500lps-MagLev
Option: Assy, ion gauge KF
Temperature controller: 10-30C
Heater jacket: Wall
Plate
quartz cover: 450 mm.
AGS MPS-450-RIE （Reactive Ion Etcher）是一种先进的蚀刻设备，利用了使用惰性气体的感应耦合等离子体（ICP）蚀刻工艺和使用微波的电子回旋共振（ECR）工艺。这种反应器是为各种蚀刻应用而设计的，如硅通孔（TSV）蚀刻、MEMS和3D-IC装置。它具有高效、精确的工艺控制，最大限度地提高了生产产量，降低了成本。该系统能够通过控制射频功率、气流和腔室压力将正负蚀刻物沉积到基板表面。此过程可确保均匀的蚀刻深度,并在材料范围内提供优异的选择性。室内采用先进的不锈钢室进行高温操作.该室还配备了现场热测量系统和低温冷却系统，有助于精确控制基板温度，提供最佳表面质量和准确的工艺控制。MPS-450-RIE配备了多频射频发电机，通过调制射频功率提供各种控制蚀刻速率和选择性的能力。嵌入式功能强大的计算机提供了一个能够检测和防止错误操作的交互式控制平台。它还存储和显示所有统计数据以供进一步分析。该蚀刻器采用面向过程的原位端点检测设计和自动晶片感应加载机制，大大减少了过程缺陷，提高了整体蚀刻性能。它有一个快速更换装载盘，一步一步装两艘晶圆船。它还支持通过以太网和/或串行连接进行远程操作,以帮助满足快速变化的生产环境的要求。AGS MPS-450-RIE适用于各种需要高质量、高吞吐量蚀刻的生产工艺。其可靠性、效率和耐用性使其成为工业应用的理想选择。
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