二手 AIXTRON 2000 HT #9056239 待售

AIXTRON 2000 HT是一种氢基低压金属-有机气相外延（LP-MOVPE）反应器。这类反应器用于生产单晶半导体材料。2000 HT采用先进的两级工艺，将金属有机前体以有机金属化合物的形式与热浓缩的环境压力相结合，生成薄结晶层。这两个阶段的过程使得晶体层组成、厚度和形状的控制和均匀性得以产生。AIXTRON 2000 HT设计有一个石英圆柱体腔室，里面充满了氢气、惰性气体（氙气和氮气）的气体溷合物，在过程中被主动清除。这一过程有助于保持清洁、控制良好的晶体生长气氛。2000 HT能够在100°C-100°C的温度下运行,同时保持异常的外延层均匀性、可控的增长率和高质量的增长结果。AIXTRON 2000 HT支持许多选项,例如可编程基板支架、热墙系统（用于完成快速温度下降速度）,以及使用激光剖面仪来实现外延层的严格扫描控制。反应堆还支持先进的机器人加载系统，该系统可以控制芯片传输、晶片负载，并确定精确的晶片位置。这可以简化控制参数的优化。2000 HT装在一个总尺寸约为0.4 m x 1.0 m、最大高度为1.2 m的钢架柜中。反应堆通过低压模拟/数字度控制连接到1.5 KW水/风冷电源。AIXTRON 2000 HT拥有与OPC/Giass 3.2.1兼容的电力电子元件、软件和计算机系统。该系统还与Xtal-C就座记录系统兼容,其记录速率高达20Hz。2000 HT是一种用途广泛、可靠、经济高效的设备,用于许多研究和生产设施。反应堆的运行也由于该装置提供的众多安全特性而既安全又高效。AIXTRON 2000 HT是任何寻找适当可靠的半导体材料合成装置的机构的绝佳选择。