二手 AIXTRON 2400 G2 #9018984 待售
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ID: 9018984
GaAr/InP Planetary reactor systems
Set up to run Red LED's
Configured for 8x3"(15x2") wafers
Source configuration:
TMGa-1, TMGa-2, TMAl-1, TMAl-2, TMIn-1, TMIn-2,Cp2Mg-1
Currently deinstalled
1998 vintage.
AIXTRON 2400 G2是一种化学气相沉积(CVD)反应器,设计用于生产石墨烯、半导体材料和其他纳米材料。它是一个单晶圆反应堆,在800 °C至1300 °C的温度下运行。2400 G2由主腔室组成,加热至选定温度。该腔室被连接到真空泵的真空容器所包围。该室由两个反应物气源组成,与反应物及其前体一起泵入该室。在室内,反应物会在受控的温度和压力条件下与底物(要涂覆的材料)发生反应。AIXTRON 2400 G2配备了送电设备,并内置了脉冲等离子体沉积系统(PPDS),鼓励材料随等离子体能量生长。这有助于实现材料的均匀沉积。此外,该装置还具有控制不同种类材料的反应物气体沉积速率的能力。腔室是完全自动化的,具有温度和压力传感器,用于监测和维持气体和基板温度、腔室内部压力以及用于沉积过程的气体量。该机器还设计有安全功能,如自动关闭机制和过压保护,以确保沉积过程中不会发生危险事件。最后,2400 G2配备了高效的控制工具,利用专用算法和图形用户界面。它具有内置的数据日志记录功能,可以使用不同的自动化级别操作。此外,该资产还包括基于软件的分析工具,如光发射光谱学(OES)来分析沉积材料。这有助于为用户获得精确和可重复的结果。
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