二手 AIXTRON 2400 G3 #293700069 待售
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ID: 293700069
优质的: 2001
MOCVD System
MKS 651C Reactor pressure PC Controller
EBARA A25S Dry pump
(9) MO Baths
Gases: N2, H2, PH3, AsH3, SiH4
Source MO:
(2) TMIn
(3) TMGa
(2) TMAl
(2) DeZn
Gas lines:
N2 Source line
H2 Line
(2) Lines for AsH3
(2) Lines for PH3
(2) Lines for SiH4
N2 Line for compensation of the hydride line
N2 Line for MO compensation
Materials based on GaAs and InP: InAs, GaInAs, GaInAsP, GaInP, AlGaAs, AlGaInP, GaAsP, GaInAsP + P or N doping with Zn or Si
(2) Screens
Keyboard
Mouse
Manuals included
Operating system: Windows 2000 Professional
2001 vintage.
AIXTRON 2400 G3是一种主要用于半导体和材料研究应用的先进系统无功电弧沉积电源。它以三室结构为基础，能够精确控制加工材料的特性。AIXTRON 2400G3采用先进的等离子弧沉积技术，从本质上使氧气大气中的目标物质汽化，并将其融合到基质上。结果是一层材料在结构、组成和厚度方面都有量身定制的特性。这种输出的可扩展性使2400 G3成为需要高度控制和定制的研究应用程序的理想选择。2400G3提供三室反应堆结构，有两个独立驱动的阴极和一个独立的地面设备。每个阴极都是通过一组专有的参数独立控制的，允许无与伦比的精度严格执行输出材料所需的特性。这些参数包括基板温度、功率水平、系统压力、离子轰击（溅射）、气流、磁控管尺寸甚至基板移动速率。此外,还可以在不同基板尺寸上生成各种材料,同时仍要遵守所需材料属性的具体要求。AIXTRON 2400 G3还配备了实时数据采集单元，能够在沉积过程中和之后收集数据。通过利用这台机器，用户可以进一步完善他们的材料参数，以产生符合所需确切规格的客观结果。归根结底，这种数据收集允许对整个沉积过程进行分析，以发现任何缺陷或不一致之处，从而使用户能够迅速纠正情况并继续实验。AIXTRON 2400G3是一种功能强大的高级工具，为研究人员提供了前所未有的沉积过程控制水平。其独特的体系结构和一套设置允许跨各种材料和基材尺寸的可扩展性,使用户能够在非同寻常的程度上定制其输出。借助其实时数据采集资产，研究人员可以进一步完善其流程，以优化其结果。这些特性使2400 G3成为任何高级实验室实验必不可少的组成部分。
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