二手 AIXTRON 2400G3 HT #9270060 待售

AIXTRON 2400G3 HT是由AIXTRON AG销售的一种先进技术的闭合耦合淋浴头（CCS）反应堆。它旨在提供高通量的薄膜沉积工艺，促进III-V半导体单晶膜的卓越生长。这种PECVD反应器适用于材料科学应用，如绝缘体上的结晶硅（SOI）和微机电系统（MEMS）。它具有几个处理室的模块化配置，如CCS室、两个等离子体室、一个缓冲室和两个处理管。位于集群工具中心的CCS腔室有一个6通多极CCS，过程气体进入腔室中心，然后向其雾化的边缘壁循环。这种喷头设计使组件分布均匀，气体均匀性极佳，提供了高水平的沉积速率再现性。在沉积过程结束时，快速温度循环设备允许快速冷却时间，以实现精确的层控制。在两个相邻的等离子体腔室中，使用微波（MW）或任何其他可用的等离子体电源产生功率。高温高压允许在大面积生产优质薄膜。设计用于安装在两个等离子体腔室上的两个加工管用于基板装卸，以及气体分配到每个沉积腔室。AIXTRON 2400 G3-HT还提供了在CCS和两个等离子体腔之间安装的缓冲室。该室作为沉积过程的缓冲，有助于稳定系统条件，防止沉积速率波动。此外，缓冲室还可用作退火/冷却室，以进一步使温度和压力均匀化。此外，2400 G3HT与先进的AIXTRON过程控制软件、用于数据采集和沉积过程监测的软件S一起交付。该单元的图形用户界面允许用户实时设置所有参数，使机器变得人性化高效。