二手 AIXTRON 2600G3 HT #9270065 待售

AIXTRON 2600G3 HT是一种反应堆，设计用于研发新的半导体应用，特别是高温（HT）工艺。这座反应堆配备了先进的温度控制设备，能够承受高达400°C的温度。它还具有匹配的一对感知器组件和三维（3D）感知器，以及线性和圆锥形气体喷射栅格和高精度运动控制系统，用于精确的基板定位。AIXTRON 2600 G3 HT是一种高性能系统,在许多薄膜和外延应用中都具有很大的过程灵活性。反应室的设计范围很广，可提供高达4800W的功率，200-400W时具有瞬时功率。它也有一个调制的功率单元，可以允许频率和峰值功率的变化微调沉积过程。2600G3 HT有一个集成的高级过程控制机，支持用户定义的沉积程序和自动化过程控制。其计算机控制的子系统在沉积过程中监测和调整过程参数，如源气流、等离子体功率、基板温度、基板偏压和惰性气体压力。2600 G3 HT采用超高真空系统（UHV）设计，可处理高温过程，降低污染风险。其设计参数使得该工具适合生产GaN、GaAs、ZnSe等化合物半导体，以及广泛的叔化合物。AIXTRON 2600G3 HT的使用对光学和LED行业的研究人员和工程师是有利的，因为这种反应器也适用于光学材料的薄膜沉积，包括低温（LT）和氢化非晶硅（a-Si： H）。为了安全和一致的性能,资产采用先进的诊断系统来检测异常的操作条件。它的先进诊断有助于通过监测室内条件和气体压力水平来降低受到污染的风险。总体而言，AIXTRON 2600 G3 HT反应堆是半导体、LED、光学行业研发产品的理想模型。它是安全、可靠的,并且可以执行HT过程以及达到精确的过程控制。它的自动化过程和综合诊断使研究人员确信他们的工作和结果质量一致。