二手 AIXTRON 2600G3 HT #9395958 待售

AIXTRON 2600G3 HT是一种高通量聚类化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于薄膜材料的高速率沉积。该设备基于模块化单晶片配置，最多可同时处理16个晶片，非常适合大型生产应用。AIXTRON 2600 G3 HT配备了多种自动化功能,便于操作。高通量气体溷合系统可以快速调整沉积膜的沉积速率和组成。该单元还具有可互换的磁化器设计，使其能够在不同晶圆尺寸和基材之间快速切换。该机器体积小巧、重量轻,非常适合实验室或面向生产的应用。沉积过程采用定向反应性气体比，具有较高的沉积速率选项，从而提高了吞吐速度。具体而言，在反应堆现场进行有效的分区使控制具有特定特性的薄膜沉积过程成为可能。由于2600G3 HT的快速加热速率，可以在晶圆、基板和基板支架上实现极好的温度均匀性。磁感器的高导热系数允许改善膜的温度均匀性，必要时可以快速更换磁感器，减少停机时间。2600 G3 HT温度范围从室温到700 °C，使其能够沉积广泛的材料，如电介质、金属、氧化物和合金。AIXTRON 2600G3 HT的高温性能使得它适合沉积金属氧化物半导体（MOS）膜，如氧化钨和硅化物。AIXTRON 2600 G3 HT还配备了多项自动化功能，包括可编程控制器、全职集成气流监控以及可编程安全联锁工具。此外，2600G3超线程是为在惰性气体下运行而设计的，为高质量薄膜的精确沉积提供了一个清洁的环境。综上所述，2600 G3HT是在研究和生产环境中沉积薄膜材料的理想工具。其高效的沉积工艺和自动化特性，以优异的温度均匀性和高质量的薄膜提供了更高的吞吐量速度。为确保安全和成功运行,AIXTRON 2600G3 HT配备了多种安全功能,旨在在惰性环境下运行。