二手 AIXTRON 2800 G4 HT #9037227 待售
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已售出
ID: 9037227
优质的: 2009
MOCVD reactor, 42x2"
Spare Parts:
3 KK-3645-1 2 Inch OUT SEGMENT (6-1)
8 KK-3646-1 2 Inch OUT SEGMENT (6-5)
1 Part No : 40020129 Accessory, Vacuum-wand, D=40
1 4002599 Auflagering "Collector" G4
1 N/A Diffusion-Barrier
1 SPECIAL Exhaust Collector
2 KK-3262-1 Exhaust connection upper(2800 SLEEVE G4용)
2 4002599 Exhauststutzen*Unterteil*2800G4-HT
6 Part No : 90430009 7.52X3.53, EPDM G4 DOR source inner O-ring
7 88.49X3.53, EPDM G4 DOR source outer
2 KK-3714 G4 Quartz Ceiling
2 KK-3635-1 G4 Star Quartz
1 40041894 Gasket*6-fold*G3*25x2*Graphite foil
1 KK-3238 Pull Down Plate (tension_disc)
1 40021106 sapphire ring
5 40040126 Satellite Pin D=1,I=48
1SET(6EA) satellite 7X2" satellite (B Grade)
2 40015202 spacer*ceiling*D560*t=0,3*
22 DD-3271 Star, Outer Quartz Pin
1 4006471 Stutzrohr*6-fach*flammpoliert
1 41020315 Supporting Disc
4 KK-3270 Supporting Disk Pin 4Inch
208/120 V, 3 Ph, 50/60 Hz, 26 KVA
4-wire and ground
In production until Q1 2012
Currently installed in cleanroom
2009 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT（Hot Target）是一种高温化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于各层处理多种不同材料。它是适合实验室水平和批量生产的工具，为生产需求提供了可扩展的解决方桉，同时提供了可靠和经济高效的加工平台。反应堆采用AIXTRON AIN 2900 GOTO VUV工艺室，该室采用了高真空钟形设计。这种设计提供了广泛的操作范围，使各种材料能够在高达950°C的温度下进行加工。这是由基板、敏感器和气体喷嘴的独立温度控制、精确的温度控制以及整个晶圆的均匀温度分布所支撑的。该工艺室配有AIXTRON CVD反应性气体注入系统和AIXTRON工艺控制软件，使其成为各种材料沉积的强大工具。AIXTRON AIX 2800G4-HT内的CVD气体注入系统旨在准确控制过程中使用的气体数量和类型。这可确保将精确的化学浓度引入腔室，促进受控和可重复的沉积过程。AIX 2800G4 HT配有AIXTRON PECVD VUV/eV控制系统,可以完全控制沉积和过程的终点。工艺控制软件可用于设置沉积时间、温度和速率，还可以监控晶圆上沉积层的均匀性。这样可以实现一致、可重复的过程结果,并最大程度地减少错误。AIXTRON AIX 2800 G 4 HT是处理各种材料的理想沉积反应器，适用于薄膜晶体管、太阳能电池等多种应用。它还能够执行串联沉积过程，使多层能够在一个处理周期内沉积，从而提高吞吐量和效率。
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