二手 AIXTRON 2800 G4 HT #9233664 待售

AIXTRON 2800 G4 HT是专门为高温沉积应用而设计的反应堆，如氧化物和氮化物的生产，或纳米材料的生长。这种最先进的技术可用于半导体沉积、氧化物基钝化和氧化物生长或结晶。它的工作原理是将精确、受控剂量的原料送入密闭真空室中。材料沉积在位于腔室的目标上，这是生产的两种机制之一。AIXTRON 2800G4 HT反应堆有一个独特的结构基于几个容易获得的组件。核心部件为加热和冷却板、磁感器、气体分配系统（GDS）和准直器。四区热敏器能够加热到2500 °C，设计用于促进整个样品区域的均匀温度。准直器设计通过优化气体分布和减少系统中前体离子的任何重组，帮助最大程度地减少污染。2800 G4 HT利用远程等离子体源技术（RPS）进行沉积。这一过程涉及利用电离气体产生等离子体沉积材料。该工艺效率高，颗粒生成非常低，给用户精确控制沉积速率和薄膜厚度。该反应堆还使用闭环气体系统，以确保在沉积过程中没有气体丢失或污染。除了2800G4 HT提供的高沉积速率和精确的工艺控制外，该反应堆还具有出色的气体处理能力。最终用户可以从广泛选择的气体中进行选择，范围从氙到磷化硅，用于工艺的不同阶段或应用。这使用户能够最大限度地提高其流程的效率，同时最大限度地减少浪费和最大限度地提高产量。AIXTRON 2800 G4HT是一种高效的反应器，主要用于高温沉积过程。它对沉积速率和薄膜厚度提供了可靠和精确的控制，具有出色的气体处理能力，并能处理各种气体。所有这些特性使其成为任何需要高温沉积过程的应用的理想解决方桉。