二手 AIXTRON AIX 200 #9359469 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9359469
MOCVD System, 2"
RF Coil heater
With FILMETRICS in-situ reflectometry system
GaN and Water-cooled quartz reactor
With inner quartz liner, 2"
SiC Coated graphite susceptor: GaN, AlN, InGaN, AlGaN
Gas foil rotation MO sources: (2) TMGa, TEGa, TMIn, TMAl, Cp2Mg (6 MO Channels)
(3) Gas precursor lines and NH3
H2 and N2 Carrier gases
Spare parts included.
AIXTRON AIX 200是一种多晶片批次型沉积设备，设计用于在多种基材上生长器级高质量的结晶材料层。该系统能够产生直径不超过200毫米的高分辨率和高质量层。它的设计目的是将材料小批量地沉积到多达八个基板上，使其成为用于原型设计和研究目的的理想选择。AIX 200具有单区平面磁控管溅射单元和标准硅靶源，使硅、氧化硅、氮化硅等材料得以生长。它具有高度的自动化和易用性,可精确控制层沉积参数,如厚度、晶粒结构和地形均匀性。该机还配备了多波长光学监视器和pH/Denensity/ThermalMeasurement工具，使用户能够在整个沉积过程中监测层的质量。AIXTRON AIX 200配备了多个控制系统，包括直流（DC）电源、直流偏置和加热/冷却系统。这样可以进行精确的温度控制,确保出色的层均匀性和一致的层增长质量。AIX 200还具有先进的压力控制功能，允许用户在沉积过程中调节气体流入并实现对所需反应的精确控制。AIXTRON AIX 200还具有多项安全功能,确保资产的安全运行。其中包括许多外部安全功能,例如防爆密封件,以及一组用于监视、控制和保护模型的集成工具。此外，AIX 200还有一个综合监测设备，旨在确保人员操作的安全环境。总体而言,AIXTRON AIX 200为各种基材上的设备级高质量结晶材料层的生长提供了可靠、经济高效的解决方桉。它能够产生直径达200毫米的高分辨率和高质量层，非常适合原型制作和研究。它还配备了一些安全功能，确保人员操作的安全环境。
还没有评论