二手 AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9243847 待售

AIXTRON AIX 2400 G3 HT是为高通量外延沉积过程而设计的多室广域石英反应器。其核心技术，高温、大容量、石英管基设备，使其极具生产商用级、纳米结构化薄膜器件的能力。AIXTRON AIX 2400 G3/HT是当今已有的最先进的反应堆之一，极适合半导体和光电应用，在有机薄膜技术和广域显示制造方面都有着良好的记录。AIX 2400 G3 HT由两个独立的、相对的过程室组成。第一个腔室是源腔室，它包含一个单独绝缘的供体源、一个热控制的熔炉以及一个已关闭的基板支架，其位置可以细微调整以确保在加工过程中沉积的均匀性。第二室是反应室，它装有独立加热的石英管，以气体箱中的气态物质为原料。AIX 2400 G3/HT利用了一系列标准的前体释放技术，包括动态分裂区和脉冲分裂区注入，以及一系列先前建立的薄膜沉积工艺，包括原子层沉积（ALD）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、热丝辅助化学气相沉积（热-Fil）。此外，AIXTRON AIX 2400 G3 HT可容纳多种设备结构，从高移动性复合半导体通道到薄膜氧化物结构和多层堆栈。AIXTRON AIX 2400 G3/HT为用户提供了通过位于源与反应室接口的集成热管理系统控制催化剂环境温度的灵活性。此外，AIX 2400 G3 HT包括一系列高分辨率分析探针，允许用户实时动态研究其过程演变。AIX 2400 G3/HT旨在以经济高效的方式持续提供卓越的工艺质量和产品吞吐量。它内置的安全单元监控整个机器的操作参数，使过程保持在预定义的范围内，防止意外的过程偏差。此外,可以将AIXTRON AIX 2400 G3 HT编程为同时运行宏观和微观规模的过程,从而使用户能够获得前所未有的沉积过程过程控制级别。AIXTRON AIX 2400 G3/HT被设计为一种极其强大和通用的工具。它将先进的技术和工艺控制相结合，使其成为研究和工业应用的首选。AIX 2400 G3 HT具备全面的功能,可确保用户能够快速、经济高效地生产出可靠、高质量的设备。