二手 AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9352601 待售

AIXTRON AIX 2400 G3 HT是一种先进的热化学气相沉积（CVD）反应器，专门为生产高效半导体器件而设计。这是一个高度先进的系统，能够严格控制和均匀沉积过程，具有优越的薄膜质量。AIXTRON AIX 2400 G3/HT具有较大的加工空间,可同时容纳多达四个4英寸晶片。该腔室的设计旨在促进沉积晶片的均匀性，并具有有效的气体循环和最佳的隔热性能。来自AIX 2400 G3 HT的输出极为均匀，跨多个晶圆具有高度的可重复性。AIX 2400 G3/HT配备了强大的加热器自适应控制系统（HACS），用于整个腔室的精确温度控制。这一特性保证了沉积条件的均匀性以及稳定的氮氧（N/O）选择性。它还可确保温度保持在最低水平,以便进行一致的沉积过程。AIXTRON AIX 2400 G3 HT使用先进的过程控制技术来监控和调节整个过程。这包括实时响应不断变化的参数以实现准确控制的反馈功能。这些技术结合了智能软件算法和强大的验证工具，以获得高度可靠和可重现的结果。AIXTRON AIX 2400 G3/HT具有多源加热选项,具有卓越的灵活性。这允许选择单个源或多源加热器设置,具体取决于所需的输出。此功能增强了系统生产质量一致的胶片的能力,同时也为用户提供了定制过程以满足其特定需求的能力。AIX 2400 G3 HT启用的热CVD工艺效率极高,而且非常灵活,因此可以沉积各种材料。这包括了III-V半导体材料，如砷化氙（GaAs）和氮化铵（GaN），以及氧化材料，如氧化​​了。这使用户能够灵活地为自己的特定目的量身定制自己的设备。综上所述，AIX 2400 G3/HT是一种高度先进和可靠的热CVD反应堆，设计用于高效和高质量地沉积各种材料。它具有强大的HACS,可实现最佳温度控制、精确的过程控制和多源加热,具有卓越的灵活性。因此，它生产的高质量、高可重现膜具有跨多个晶片均匀性。