二手 AIXTRON AIX 2600 G3 HT #293592763 待售

AIXTRON AIX 2600 G3 HT是一种化学气相沉积（CVD）设备，用于材料薄膜和纳米结构的生长。它非常适合材料科学、光电、半导体和微系统技术领域的研发项目。AIX 2600 G3 HT是一个六边形的水平反应堆，具有四臂几何形状，允许多达六个过程单元同时操作。单个电池被设计为与不同的源材料兼容，并具有具有低垂直温度梯度的均匀温度分布。每个单元都有一个独立控制的底源、中源和顶源，包括垂直固体源操作系统。该单元装有一台RF/DC等离子体发生器，利用射频（RF）和直流电（DC）的组合来创建等离子体。RF/DC可以提高过程的可重复性，特别是在沉积速率、层均匀性和增长率方面。AIXTRON AIX 2600 G3 HT的温度范围为10°至350 °C，允许用户从四个不同的温度均匀性级别中进行选择。最大转速为300 rpm可确保良好的温度曲线均匀性。个别原料的温度由机器独立调节和密切监控。AIX 2600 G3 HT的沉积速率为0.2至3.0nm/s，压力范围为0.2至3.0 torr。该工具配有一个完全集成的过程控制资产，用于监视过程变量，以最大程度地控制正在处理的材料。AIXTRON AIX 2600 G3 HT具有多种安全特性，包括紧急关机模型、自动排气、空气采样和干式排气设备。这样可以确保系统的使用安全,并保持过程的质量。总体而言，AIX 2600 G3 HT是材料科学和光电子应用的高效通用单元。它具有很高的统一性、可重复性和速度,是研究项目的理想选择。