二手 AIXTRON AIX 2600 G4 HT #9160106 待售

AIXTRON AIX 2600 G4 HT是先进半导体材料外延生长的高通量、高性能反应堆。它具有多种尖端特征，包括全加热源室、多通道EF散光仪、pECVD沉积系统和各种行星安装基板支架。这种组合在实现高效和高温过程控制方面起着关键作用。AIX 2600 G4 HT有一个由厚壁金属氧化物石英管製成的大型源室，用一组独立控制的多区电炉加热。可调气流系统允许精确控制外延过程中使用的反应物气体。源腔能够达到高达1200 °C的最高温度。反应堆的电子转发单元（EFU）是一种多通道散射激光干涉仪。该设备能够精确控制源腔压力,并提供有关增长环境状态的反馈,用于实时过程监控和优化。而且，AIXTRON AIX 2600 G4 HT配备了行星安装的基板支架。该装置包括一个伸缩适配器，便于处理和灵活的底物持有，同时也允许不同的试剂同时分布到多个底物位置。这种多位置功能允许更大的流程灵活性和统一性。反应堆中生长的外延层可以通过pECVD或等离子体增强化学气相沉积系统进一步表征和监测。这些系统提供直接来自生长室的层的组成和厚度的实时分析。这种先进的沉积技术利用高频电场将少量反应物气体分子分解，可用于电介质膜和薄氧化物的沉积。最后，AIX 2600 G4 HT是先进半导体材料外延生长的强大反应器。它具有加热源腔、多通道散光激光干涉仪、pECVD沉积系统和多种行星安装基板支架等尖端特点，是高效高温过程控制的理想选择。