二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #189322 待售

AIXTRON AIX 2800 G4 HT是为III-V基半导体材料的金属有机化学气相沉积（MOCVD）而设计的经过生产验证的反应堆设备。该系统是为实现最佳沉积性能而设计的，能够实现超高增长率。AIXTRON AIX 2800G4-HT可以在大气和高压应用中运行,根据所需的晶体结构和材料特性,可以最佳地选择生长条件。AIX 2800G4 HT由一个与气体输送单元相连的反应室、一个电源和一个装在高温低温恒温器中的过程控制器组成。该反应室的设计是为了在原料和底物之间建立最佳的热梯度，以达到所需的材料质量和工艺均匀性。反应室的几何形状配置确保汽化前体材料有足够的停留时间，防止冷斑成核，提高材料质量。AIXTRON AIX 2800G4 HT采用了一种创新的双气体输送机器，允许在不同的工艺条件下处理两种不同的原料或两种不同的气体溷合物。气体输送工具可以支持受控的载气流动，以及脉冲或连续注入反应性气体以形成所需材料。精确的气体输送控制还允许以极高的沉积速率沉积材料，并可选择比标准反应堆高出两个数量级。AIX 2800G4-HT还配备了高温石英窗口，用于对沉积物料进行现场监测。窗户采用低压防反射涂层增强，使沉积材料的光学性能得到改善。AIX 2800 G4 HT还包含先进的电力供应资产，专门为沉积过程的高效运行而设计。此外，AIXTRON AIX 2800 G 4 HT配备了强大的工艺控制器，可以在操作过程中精确调整工艺参数。该工艺控制器能够记录和存储实时工艺参数，确保了重复可靠的沉积结果。流程控制器还提供直观的图形用户界面（GUI）,具有报警和远程界面功能等功能。AIX 2800 G4HT针对优质III-V材料的沉积进行了优化，使其成为工业规模沉积应用的绝佳选择。该模型的精确气体输送设备、高温石英窗、高效供电，以及强大的工艺控制器，确保了所需材料的可靠和可重复沉积。AIXTRON AIX 2800 G4 HT是III-V光电和功率器件制造的理想选择。