二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #293758235 待售

AIXTRON AIX 2800 G4 HT是开发生产先进技术薄膜的高通量反应堆。AIX 2800采用单晶片原位气体溷合技术，能够精确沉积无污染和缺陷的薄膜。它包括最先进的晶片间定时和温度均匀性特征，以确保一致的薄膜性能。AIX 2800还具有独特的Turbo（两层薄膜）峰值功率模块,可在高温下实现薄膜沉积的最大稳定性。AIX 2800设计用于单晶片和基材的生产。包括用于精确温度控制的高科技加热设备，以及用于薄膜可重复、清洁和可控沉积的专用热气电池和气体溷合部件。AIX 2800还融合了强大的射频和磁控溅射源以及易于使用的触摸屏控制。该系统可以在各种关机和启动条件下运行，以优化单元寿命和产品性能。此外,AIX 2800还提供了高度的灵活性和定制选项,使其能够满足各种薄膜沉积应用程序的特定需求。AIX 2800还采用了专利装载机盒设计，在装卸操作过程中最大限度地提高安全性和可靠性。它包括一个高效率的炉级联机，确保整个基板或晶圆均匀的温度分布。AIX 2800能够对薄膜沉积进行敏感的温度控制，具有良好的表面均匀性。此外，它还能够自动装卸操作，以及定制的基板处理和基板转移。AIX 2800支持许多高级工艺能力，包括晶片对晶片和基板对基板热处理。它具有先进的气体溷合和工艺监测功能，设计用于处理单室的低温和高温沉积。此外,AIX 2800可容纳各种反应堆和射频功率配置选项,并且可以轻松升级以满足不断变化的市场要求。该工具被设计为最佳地执行一些特定的薄膜工艺，如介电膜、反射器、钝化层、光学和电气屏障层以及金属和聚合物层。AIX 2800是先进薄膜沉积的理想反应器，具有优良的工艺控制、均匀性和可重复性。该资产适用于汽车、航天、医疗器械生产等高端产业，是复杂错综复杂的薄膜沉积的理想之选。其强大的性能、用户友好的控制面板和自动化的流程选项使其成为希望提高效率和降低成本的公司的理想选择。