二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9064064 待售
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ID: 9064064
优质的: 2010
GaN MOCVD System
EpiTT
Second wave length: 405 nm
Source: TMGa-1, TMGa-2, TMAl-1, Cp2Mg-1, Cp2Mg-2, TMIn-1, TMIn-2, TEGa-1
Thermal baths:
(5) RM 6S
(2) RM 25S
2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一种高通量(HT)反应堆,适用于广泛的应用和材料。它是传统半导体生产系统的高性能、低成本替代品。AIXTRON AIX 2800G4-HT利用AIXTRON行业领先的MOCVD和HDPCVD技术提供更高的晶圆吞吐量产量和可扩展性。AIX 2800 G4反应堆采用双室架构建造。上腔为高温MOCVD区域,下腔为低温HDPCVD区域。所有反应堆部件都装在绝缘环境中,并进行密封,以保持有效沉积所需的精确温度和压力水平。AIX 2800G4 HT设计易于安装、操作和维护。AIX 2800 G 4 HT具备一流的安全防范措施,包括高端排气、车载诊断软件、可编程参数和智能过程监控。此外,AIXTRON AIX 2800 G4HT能够以高质量和大批量的形式沉积各种材料。AIX 2800 G4 HT能够生产生长速度高达20微米/小时的半导体级材料。AIX 2800G4-HT可容纳6英寸大小的晶片,并为精确的沉积控制提供3D可控比率。此外,AIXTRON AIX 2800G4 HT所有者可以自定义其速度、温度和压力设置,以针对其特定的应用需求优化沉积过程。AIXTRON AIX 2800 G4 HT还具有先进的等离子体处理能力,包括快速循环和反应性气体注入。AIXTRON MCVD和HDPCVD技术非常适合硅、散装、散装等材料。此外,AIXTRON专有的Pulsed-System技术减少了沉积时间,并允许AIXTRON AIX 2800G4-HT在更短的时间内实现所需的工艺结果。综上所述,AIX 2800G4 HT是一种强大而高效的双室高温/低温反应器,能够进行各种半导体沉积过程。AIX 2800 G 4 HT能够处理尺寸不超过6英寸的晶片,处理从硅到的材料,并提供半导体级材料所需的精确控制。
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