二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9064065 待售

AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一种设计用于薄膜沉积的最先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器。反应堆在从室温到800°C的一系列工艺温度下运行，具体取决于材料。该厂配备了一系列工艺气体，能够生产多种材料的优质薄膜。AIXTRON AIX 2800G4-HT是一种三室设计，可根据所需沉积类型配置为单室或分室设备。主加工室被封闭在一个倒钟形的不锈钢室内，有一个集成的冷却系统，既冷却基板，又去除过程相关的热量。一个气源歧管被整合到钟形腔室中，允许输送多达四种工艺气体，用于沉积各种材料。主室包括一个后侧气体喷射器，用于输送反应性物质，用于更困难的薄膜应用。该室还具有气体基脱气室的一个选项，允许从加工气体中清除气相污染物或与材料有关的物质。AIX 2800G4 HT还具有一系列可选功能,可用于更高级的沉积过程,例如基于脉冲的沉积室。该腔室的设计旨在通过为选择性区域沉积过程提供工艺气体脉冲输入来进一步改善对膜厚度和组成的控制。AIXTRON AIX 2800G4 HT的控制单元基于功能强大的个人计算机,为操作员提供直观的图形用户界面。反应堆还设计为与集成的过程监测和计量系统兼容，允许精确控制薄膜性能。总体而言，AIX 2800 G4HT是一种精密的薄膜沉积机，可精确控制薄膜性能和卓越的可重复性。AIX 2800G4-HT具有广泛的先进功能,是任何薄膜沉积操作的强大工具。