二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9171480 待售

製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4 HT
ID: 9171480
晶圆大小: 4"-6"
优质的: 2009
MOCVD System, 4"-6" Process: GaN 2009 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一种用于高温催化过程的高通量、单晶圆行星反应器。它是为各种与电力电子、光电、VLSI、MEMS和微系统有关的薄膜材料的热增强沉积而设计的。AIXTRON AIX 2800G4-HT基于坚固的通路、热管冷却、死胡同配置,可高效、均匀和可重复地沉积高温耐火材料,如金属硅化物和氮化物。该设备具有一个大的加工区,可容纳直径达十二英寸的晶片。AIX 2800G4 HT的工艺室设计是基于经过验证的热管冷却单晶圆行星几何原理。这种设计提供了热点和冷区之间的最佳热平衡,膜厚度和密度的极好的均匀性。AIX 2800 G4HT还利用了创新的接入室以及独特的气体屏蔽技术。该检修室允许有效装卸晶片,为基材加工提供了一个干净的环境。AIXTRON AIX 2800G4 HT结合了高通量的自动脉冲系统,可确保薄膜的无瑕疵制造,消除晶片对晶片的变化和颗粒侵蚀。该设备还具有集成的智能机器控制器和软件,在优化沉积参数的同时增强了用户的安全性。集成配方创建和控制软件还允许用户通过一些简单的击键,轻松选择特定材料和工艺的最佳沉积参数。AIX 2800 G4 HT旨在确保最低限度的维护和卓越的操作可靠性。它采用了一种综合气体输送工具,使过程气体的安装和维护过程自动化。此外,先进的过程中颗粒监测资产通过消除可能影响性能的颗粒来确保膜的高质量涂层。总之,AIXTRON AIX 2800 G4HT是一种高效高效的高通量、单晶片行星反应器,是各种薄膜材料热增强沉积的理想选择。该型号配备了多种特性和技术,确保了最佳的热平衡、薄膜厚度的均匀性、可靠的操作和最小的维护。
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