二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9226196 待售

AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一种利用快速热处理（RTP）和多区加热技术的高温化学气相沉积反应器。这一先进技术旨在以可重复和可靠的方式将薄膜沉积在基板上。RTP允许使用多种加热器元件和多种气体对基板和反应堆室进行高效、均匀的加热。AIXTRON AIX 2800G4-HT提供低缺陷处理机制,具有良好的热均匀性和控制性,非常适合III-V和Silicon Photonics等应用。AIX 2800G4 HT反应堆是一个高度可定制的平台,能够针对特定的工艺条件（如温度、压力和注射率）进行配置。其生产级设计采用分布式多区加热器，在整个基板上具有独立的热控制。这种配置允许精确控制沉积速率、均匀表面涂层和薄膜性能。AIX 2800 G4 HT反应堆利用增强型前体，创造出表面覆盖率极好的单晶层。该反应堆还支持闭环过程控制，允许将所需材料自动和监测沉积到基板上。这种反应器的高选择性保证了清洁薄膜和特性，具有良好的表面平面性和减小的边缘珠形成。AIXTRON AIX 2800 G4HT还具有较高的工艺稳定性、准确性和可重复性。可变射频功率允许精确控制沉积速率，而坚固的晶圆处理系统确保晶圆基板从盒式磁带到腔室的轻柔处理和安全传输。AIXTRON AIX 2800G4 HT是工业级沉积和涂层的终极解决方桉。它的高级功能加上可定制性,为薄膜应用程序提供了无与伦比的可靠性和质量效果。