二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9256336 待售
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ID: 9256336
优质的: 2011
MOCVD System
Capacity: 42x2", 11x4", 6x6"
Wiring: 4-Wire with Ground
Hydride line: NH3-1, NH3-2, SiH4
MO Source: TMGa-1, TMGa-2, TMAl-1, Cp2Mg-1, TMIn-1, TMIn-2, TEGa-1, TEGa-2
MFC: Horiba
Temperature monitor: EPI TT
Power supply: 400 / 230 V AC, 3 Phase
2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一种先进的金属有机化学气相沉积（MOCVD）反应器。它是一种沉积设备，使用化学来源，例如金属/有机前体，来制造纳米级薄膜和结构。该系统设计用于制造异质和均质材料，如半导体晶体、薄膜、纳米颗粒和相关纳米结构。AIXTRON AIX 2800G4-HT利用高温制造高质量、均匀的薄膜。AIX 2800G4 HT是一种高通量的高温沉积装置.它配有石英石英器室，可容纳4英寸晶圆和8英寸晶圆。本机提供低压MOCVD（LP-MOCVD）、大气压MOCVD（AP-MOCVD）、超临界流体（SCF）沉积等多种沉积过程。它还能够处理高达25nm的材料吞吐量。AIXTRON AIX 2800 G4HT采用内置反应性气体控制工具设计。这一资产为各种薄膜和基板提供了广泛的气体流速、温度控制和压力控制。该模型还配备了广泛的过程能力，用于控制反应温度、传播速度、沉积速率等沉积过程的关键参数。此外,AIX 2800G4-HT还设计了一个用于过程监视和控制的选项。其内置的过程监测设备允许对沉积条件、气体流量、基板温度、薄膜厚度等沉积过程的不同方面进行实时监测。AIXTRON AIX 2800G4 HT还配备了配方库，可用于存储和召回沉积配方，用于可重复的工艺操作。总体而言，AIX 2800 G4 HT是一款多功能系统，提供用户友好、优质、高产的光电器件、电子器件以及相关纳米结构。它是一个符合胶片质量、均匀性和吞吐量等行业层面标准的可靠单元，帮助研究人员和制造商创造出可用于广泛应用的材料。
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