二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9262094 待售

AIXTRON AIX 2800 G4 HT是为半导体工业研发应用而设计的高度先进的沉积反应堆。它具有独特的设计，结合了改进的胶片生长控制和增强的过程重复性，从而提高过程吞吐量和更好的设备产量。AIXTRON AIX 2800G4-HT利用多种设计原理来优化反应堆性能。它具有较强的源利用系数，能提供较高的源强度和鼓励物种的有效重组，以及一个低矮的腔室，以改善气体流动和均匀沉积。该反应器还具有控制速度的晶片级，具有较高的步进重复性和可靠的晶片对晶片覆盖。AIX 2800G4 HT配备了最新的沉积技术，包括多源反应性离子沉积、底物独立沉积、离轴涂层、双目标热场蒸发。这些技术使得3D集成电路、超大规模集成、复合半导体、光学涂层和铜金属化等领域的研发成为可能。AIX 2800 G4HT具有先进的工艺控制能力，允许在生长过程中快速检查和调整沉积参数。这种控制是通过记录和调整算法的复杂组合来实现的，这确保了核和层设置在特定过程中保持优化。AIX 2800G4-HT提供最大的基板运动,以加快工艺速度,并提供完全封闭的环境以提高安全性。直观的用户界面允许简单的过程设置和监控，系统与所有领先的半导体晶圆厂管理软件兼容。总体而言,AIX 2800 G4 HT是一种功能强大且用途广泛的沉积工具,可让用户精确控制胶片的生长和过程的可重复性。因此，它非常适合试验最新的半导体技术。