二手 AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9305775 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G4 HT
ID: 9305775
晶圆大小: 4"
优质的: 2010
MOCVD System, 4" Size: 11" x 4" 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT是一种高温金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器,设计用于生产III-V和II-VI半导体材料的结晶膜。AIXTRON AIX 2800G4-HT包括一个精简版的AIX 2800 G4,具有显着降低的真空设备,绝缘反应室壁,以及更高的温度能力。这种配置使得AIX 2800G4 HT适合于需要使用更高温度的材料的增长,并且相对于功能齐全的AIX 2800 G4降低了成本。AIXTRON AIX 2800 G4HT具有垂直反应室,其设计可加热至最高工作温度850 °C。该腔室采用涡轮泵、扩散泵和背衬泵的优化组合,保持超高真空水平。该系统达到的最大抽水速度高于标准AIX 2800 G4中提供的。该工艺室还设有一个加热节流阀,以改善工艺温度控制,为晶圆旋转木马分隔加热区,并能够在现有的顶部添加额外的加热元件。AIX 2800G4-HT可以同时使用标准和定制的高级净化气体来创建一系列反应条件,使其用户能够为各种设备应用生产高质量的薄膜。该单元还支持使用许多基材尺寸,从2英寸到8英寸,以允许各种胶片类型的增长。AIXTRON AIX 2800G4 HT还包括一个数字仪表机,具有Gas Manager、X-Y级、加热器功率和沉积速率等一系列不同的控制。此仪器工具旨在为研究人员提供全面的过程控制、数据采集和监控的访问权限。总体而言,AIX 2800 G4HT是一种坚固耐用的高温MOCVD反应器,具有各种温度控制选项和先进的工艺特点,能够沉积高质量的薄膜。它流线型的腔室几何形状和降低的真空资产使其成为温度密集型过程中特别经济高效的解决方桉。
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