二手 AIXTRON AIX 2800 G4 #9229944 待售

AIXTRON AIX 2800 G4是一种研究级化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于半导体器件的开发、生产和研究。该设备非常适合在印刷电子、先进材料和纳米设备等苛刻的工业和科学应用中生产高质量的材料和设备。AIXTRON AIX2800G4具有一个冷墙、10区扫视淋浴室，直径667mm，高度890mm。该工艺室能够容纳450 × 450mm尺寸的较大基板。腔室隔离良好，设计压力为2毫巴，保证了高工艺重复性。该系统还配备了先进的原位温度控制，在设定值的+/-1°C范围内提供稳定性和准确性。AIX 2800G4由AIXTRON PRECISION+™过程控制软件提供支持,它为用户提供了一个直观的界面以及在过程控制和优化方面的高级功能。PRECISION+™软件允许用户从世界任何地方访问流程配方,从任何启用Web的设备访问远程控制流程,并实时设置流程运行。它还具有强大的数据记录单元，为用户提供全面的过程分析和监控机器性能的长期运行。AIXTRON AIX 2800 G4反应器采用PDP-MC™多源沉积技术，提高了工艺通量，提高了膜的均匀性。该工具还配备了用于均匀温度分布、低膜应力和提高工艺稳定性的涡轮ColdWall™技术。它还具有强大的自动化加载和卸载资产,有助于提高工作效率并减少停机时间。总体而言，AIX 2800 G4研究级CVD反应堆是一种高性能模型，具有卓越的工艺稳定性和均匀性。先进技术的使用加上有用的用户界面和过程控制软件，使其成为在具有挑战性的工业和科学应用中产生高质量胶片的理想选择。