二手 AIXTRON AIX 2800 G4 #9394709 待售

AIXTRON AIX 2800 G4是一种最先进的PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备，用于工业生产各种薄膜图案蓝宝石基板（PSS）和结构化涂层。该反应器的设计在薄膜沉积方面提供了最高的性能和灵活性。AIXTRON AIX2800G4最显着的特点是其强大的ICP（感应耦合等离子体）源。该电源包括第二代ICP发电机和专门设计的电源控制器。电源控制器提供多达5个不同的功率级别，使用户能够即时调整等离子参数。这种改进的等离子体条件控制使等离子体增强型化学气相沉积层具有均匀的涂层厚度和优异的均匀性。AIX 2800G4还具有用于反应物气体和净化气体的高精度位置气体进料系统。它包括一个自动压力调节器、流量阀和一个多区歧管，将反应物气体输送到ICP源。这允许使用者精确控制纯和反应性气体的输入，从而精确控制薄膜沉积速率。AIX 2800 G4在精确精确的剂量控制方面能够与全球最高的市场标准相匹配。作为为生产PSS而设计的反应堆，AIX 2800 G4带有双反应堆腔室设计，经过优化，能够在PSS上实现精确、均匀的涂层。这种双室设计的特点是一个内高室用于薄膜沉积和一个外下室用于图案。这两个腔室的精确温度和压力控制使得沉积腔室中的压力和温度控制极为精确，导致PSS层的均匀性。反应堆还具有较高的定位精度和均匀性。这意味着它能够精确定位口罩和模具，以达到PSS生产的最高分辨率。该装置甚至可用于PSS的高分辨率激光辅助沉积（HRLAD）。总体而言,AIXTRON AIX 2800 G 4是一款功能强大且精确的PECVD反应堆机器,提供业界领先的性能和灵活性。其先进的ICP发生器和位置气体进料工具提供等离子体参数和反应物气体的精确控制，而其双反应堆腔室设计则确保PSS的精确沉积和模式化。高的位置精度和均匀性使其成为高分辨率PSS生产的理想选择。