二手 AIXTRON AIX 2800 G4 #9394717 待售
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AIXTRON AIX 2800 G4是一种低压化学气相沉积(CVD)反应器,有助于促进制造用于生产各种先进基材的薄膜的过程。这种用途广泛的反应堆能够沉积多晶硅和纳米材料等各种材料,同时为用户提供一些好处,包括低热预算、增加沉积速率和更安全的操作。AIXTRON AIX2800G4由一个温控反应室组成,以及一个快门、等离子体发生器和平面盒式磁带。温度控制反应室通常由石墨散热器、陶瓷隔热器、感光器和两区二氧化硅熔融石英套组成。可以安装垂直执行器来手动定位基板,并允许使用不同的基板。快门由精密螺杆驱动控制,用于调节材料沉积过程。等离子体发生器提供反应物化学吸附所需的能量,并且设计为提供非常局部化的等离子体。平面盒式磁带提供各种基板的载体,而不必改变磁感器。为了确保安全运行和高效生产,AIX 2800G4包括PIR传感器和压力传感器等安全系统。PIR传感器检测任何强辐射,而压力传感器则用于监测反应堆内部的压力,并在不再处于运行极限时向用户发出警报。AIXTRON AIX 2800G4还拥有许多用户友好的功能,如自动系统接口,以及触摸屏操作员界面,用户可以在其中访问过程参数和反应堆设置条件等信息。AIXTRON AIX 2800 G 4是一种用途广泛、可靠的反应堆,适合为多种先进基材沉积多种材料。它为用户提供低热量预算,增加沉积率和提高安全性与安全系统和用户友好的特点。AIX 2800 G4是一种理想的低压化学气相沉积反应器,适用于广泛的应用。
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