二手 AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9226657 待售
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已售出
ID: 9226657
晶圆大小: 2"-6"
优质的: 2011
MOCVD System, 2"-6"
GaN
Chamber: 56 x 2" / 8 x 6"
Temperature monitor: Photrix / EPI TT
Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4
MO Source:
TMGa-1, TMGa-2, TMAI-1, Cp2Mg-l, Cp2Mg- 2, TMIn-1, TMIn-2, TEG-1, TEG-2
Main body
RF Generator: 1210 mm(L) x 800 mm(W) x 2300 mm(H)
Main pump: EBARA ESA80W-HDF
Pump: (2) Scroll pumps
Monitor: Photrix LWL Luxtron
Monitor: EpiTT x GS x 405 nm
Wiring: 4 Wire + Ground
Power: 400 / 230 VAC, 3-Phase
2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT是一种高性能的反应性离子蚀刻(RIE)反应器,设计用于大规模底物的精确蚀刻。AIX 2800能够同时进行低能(LE)和高能(HE)蚀刻,这一特性使它能够提供最大的灵活性和工艺精度。AIX 2800配备了一台13.56 MHz的发电机和一个提供多层阴极/QCM控制的空腔。这种配置提高了蚀刻工艺的均匀性,提高了晶片表面的蚀刻均匀性,提高了可重复性。AIX 2800还具有双负载锁、多级泵装置、带实时温度监测的腔室温度控制系统以及内置的PLC和施耐德电气伺服控制器。此高级功能集允许运行具有高重复性和准确性的多级蚀刻配方,以及增强的自动化和过程系统控制。AIX 2800还采用了现场残留气体分析的最新技术。该系统利用附着在工艺室的质谱仪来分析该室大气的成分,以优化每个工艺阶段的蚀刻性能。AIX 2800的多功能蚀刻功能、先进的功能以及与各种基板的兼容性使其成为半导体、MEMS和LED行业生产设施的理想蚀刻工具。它是制造过程中降低成本、提高设备产量的一种高效可靠的工具。
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