二手 AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9241907 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G5 HT
ID: 9241907
优质的: 2011
MOCVD System, 2"-6" GaN Chamber: 56 x 2" / 8 x 6" Temperature monitor: Photrix / EPI TT Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4 MO Source: TMGa-1 TMGa-2 TMAI-1 Cp2Mg-1 Cp2Mg- 2 TMIn-1 TMIn-2 TEG-1 TEG-2 RF Generator Main pump: EBARA ESA80W-HDF (2) Scroll pumps Monitor: Photrix LWL Luxtron Monitor: EpiTT x GS x 405 nm Wiring: 4 Wires and ground Power supply: 400 / 230 VAC, 3-Phase 2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT是一种精密的高通量和滚转(R2R)生产规模的半导体反应堆,用于加工各种半导体材料,用于光电、光机械和微机电系统(MEMS)的应用。它能够支撑从300摄氏度到1000C的温度,在较大的基板区域提供高的工艺重复性和均匀性。该反应堆配备了具有高均匀性和可选能量的双源LLAG,以满足柔性工艺需求。高温设计提供了高掺杂退火和更少的颗粒附着力。此外,它还支持在开放和封闭区域中的厚膜沉积.反应堆有特殊应用,包括金属有机化学气相沉积(MOCVD)和原子层沉积(ALD)。此外,反应堆的模块化设计大大便利了增加吞吐量选项或额外的端站需求。AIXTRON AIX 2800G5 HT具有一个温度均匀性高达0.3C的石英反应室,以及一个向其原位气体监测器输送气体的过程系统。这使得反应堆能够实时监测和量化工艺气体。它还配备了机动化加工甲板,用于更高效的基板装载和加工,以及船上基板的自动对准系统。AIX 2800 G5 HT具有高级控制和自动化功能,可提高流程可靠性、可重复性和产量。在某些领域,AIX 2800G5 HT尤其突出,例如其流程控制软件:THE E-Toolz,它允许客户在自己的系统上执行定制和临时流程配方以及流程参数化映射,而不是依赖外部服务提供商。AIXTRON AIX 2800 G5 HT提供广泛的处理能力。它是多个工艺领域的领导者,如液源、电子束和离子束源的热发射器以及表面控制的薄膜工艺。反应堆还配备了气体分配控制,用于均匀的气体/蒸气输送,高真空能力,以及高性能的沉积控制系统。总之,AIXTRON AIX 2800G5 HT是一种高通量、R2R生产的反应堆,能够满足广泛的温度范围和工艺需求。通过模块化设计以及先进的过程控制和自动化功能,它为提高可靠性、重复性和产量提供了巨大的机会。此外,其功能(如用于定制和临时流程配方的E-Toolz可为客户提供对其处理的更多控制。
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