二手 AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9278265 待售

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製造商
AIXTRON
模型
AIX 2800 G5 HT
ID: 9278265
优质的: 2010
MOCVD System GaN Main body RF Generator EBARA ESA80W-HDF Pump (2) Scroll pumps Chamber: 8" x 6" Hydried line: NH3-1, NH2-1, SiH4 Temperature monitors: Photrix LWL luxtron EpiTT x G5 x 405 nm MO Sources: TMGa-1 TMGa-2 TMAl-1 Cp2Mg-1 Cp2Mg-2 TMIn-1 TMIn-2 TEGa-1 TEGa-2 Power supply: 380/230 VAC, 3 Phase, 4 wires+ground 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT是专门为装置制造而设计的化学气相沉积(CVD)反应器。这类反应器用于生产半导体和光电子型材料和组件,如硅片,用于各种含有电气组件的产品。AIXTRON AIX 2800G5 HT配备了强大的离子源和创新的等离子体发生器,允许在各种工艺大气中达到高达1000 °C的最高沉积温度。AIX 2800 G5 HT是一种全晶片沉积设备,意味着它在反应过程中将材料沉积在单个晶片的整个表面上。这使得它非常适合小型和大型批量的应用程序。另外,G5 HT的反应室配有无人驾驶机器人臂,提供晶圆相对于沉积系统的精确运动控制,使得热均匀性和高沉积质量得以优化。AIX 2800G5 HT效率极高,其电源处理能力无与伦比。它采用了高度可控、可靠的流动单元和可靠的气体处理机。气体处理工具是封闭和自动化的,确保其材料加工的最高效率和安全性。AIXTRON AIX 2800 G5HT还具有研究级腔壁,提供无与伦比的沉积过程均匀性。AIXTRON AIX 2800G5 HT的温度控制资产是其最令人印象深刻的特点之一。该模型提供了晶圆极其精确和一致的加热,从而提供了卓越的温度控制和水平均匀感应整个晶圆。这也提高了沉积均匀性,避免了对基材可能发生的任何热损伤。此外,其灵活的配置和控制设备使用户能够对沉积系统进行实时调整,确保最佳工艺结果。总体而言,AIX 2800 G5 HT是一款先进且可靠的CVD设备,可提供快速且经济高效的设备制造解决方桉。其长期的稳定性、机器效率和广泛的工艺范围使其成为各种工业应用的最佳选择,其集成特性也使其适合研究工作。
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