二手 AIXTRON AIX G5 HT #9283177 待售

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AIXTRON AIX G5 HT
已售出
製造商
AIXTRON
模型
AIX G5 HT
ID: 9283177
优质的: 2010
MOCVD System 2010 vintage.
AIXTRON AIX G5 HT是一种用于生产微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)工艺的最先进的连续流动、行星转子高通量反应器(HTR)。它是为高速率沉积具有优异纬度和选择性的材料而设计的。该反应堆能够在恒温和气体控制下提供高通量速率(最多20晶圆/分钟)。AIXTRON AIX G5 HT旨在改进现有的生产操作,从而为客户提供一条高精度、高速度的生产线,具有可靠的产量和成本效益。AIX G5 HT是一种低压、垂直取向的不锈钢反应器,顶部为圆顶,盖有水冷。反应室内部装有行星旋转盘和两个固定式气体入口歧管。圆盘用于在沉积过程中旋转单个晶片。气体入口使整个晶圆表面的加工气体均匀分布,从而实现均匀性和高通量能力。AIX G5 HT常用RF或微波功率实现等离子体增强和蚀刻操作。射频功率由功率范围从10瓦到350瓦的可调发电机产生。先进的诊断系统提供对所有工艺参数的实时监测和控制,如功率、反应物流动、温度和其他关键气相特性。AIXTRON AIX G5 HT与传统的批式反应堆相比有许多优点。它具有内置的晶片自动监控系统,能够检测晶片在基板上的缺陷和缺陷。它还有一个内置的基板加热系统,可以在沉积过程中精确控制基板温度。此外,AIXTRON AIX G5 HT还配备了一系列传感器和阀门,以确保过程控制和一致性。AIX G5 HT适用于包括GaN、GaAs、InP、光伏、MEMS等多种化学气相沉积/蚀刻应用。借助易于使用的图形用户界面,AIX G5 HT可以轻松融入生产环境。AIXTRON AIX G5 HT提供的各种工艺参数确保了经济高效、灵活、可靠和高吞吐量的生产系统。
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