二手 AIXTRON CCSH 30x2 #9353180 待售

AIXTRON CCSH 30x2是一种化学气相沉积（CVD）反应器，用于沉积薄膜，用于多种应用。反应堆采用双水平圆柱体设计，可实现高沉积速率和均匀性。反应堆还支持各种工艺气体和原料，例如硅烷用于硅基层，有机金属用于其他金属层。CCSH 30x2设计为利用两区热冷墙技术在整个基板上提供最大的均匀性。这个二次腔室有助于在腔室内均匀散布底物，也能最大限度地减少原料与加工气体之间的不良反应。反应堆配有两个原位质流控制器，以精确控制工艺气体的压力。AIXTRON CCSH 30x2还具有现场监控功能。可编程扫描系统可以精确控制基板温度，光学高温计可以快速精确地测量基板温度。腔室中的石英窗可用于光学测量沉积过程，如层生长速率和层组成。在CCSH 30x2中，加工室加热至高达1000 °C的温度。腔室充满了一种过程气体，如氮气或氦气。模型源，如硅烷和有机金属，然后汽化进入腔室。通过操作过程气体流速可以调节沉积速率。AIXTRON CCSH 30x2可以在批处理模式或连续过程中操作。在批处理模式下，基板被装入腔室，过程开始，并允许沉积发生，直到程序完成。在连续模式下，基板被装入腔内，CCSH 30x2在基板上移动时将层沉积在腔内。这允许高通量沉积，因为反应堆可以连续运行而无需手动处理底物。AIXTRON CCSH 30x2反应器由于功能广泛、均匀性、温度控制、基板尺寸大，是沉积薄膜材料的有用工具。它为生产高重复性、高精度的薄膜提供了一个极好的平台。