二手 AIXTRON Crius 31x2 #293587443 待售

AIXTRON Crius 31x2是一种化学气相沉积（CVD）反应器，旨在优化III-V、II-VI和氧化物半导体等材料的晶体生长。它采用低压、异构布局设计，采用摆臂式淋浴头，在基板上实现高度均匀性。该设备配有液体和气体输送系统，以及电子回旋共振（ECR）等离子体源，允许在过程中精确控制两种单独的反应物气体。Crius使用低压（2-150毫巴）工艺室来管理各种材料的生长,并提供了一种独特的经济高效的解决方桉,用于提供高质量的大面积结晶材料。AIXTRON CRIUS 31 X 2是一个反应室，通过使用先进的化学气相沉积（CVD）和先进的等离子体增强的CVD（PECVD）工艺，可以从底物中生长出多个工程晶体层。反应堆使用均匀的团簇式喷头在低至中等压力下运行，这种喷头在整个基板上提供了非凡的均匀性，并且与其他先进的加工技术具有极好的兼容性。过程中应用的ECR源可确保过程的均匀性。Crius 31x2的先进技术使其适合薄膜金属、金属氧化物、多晶硅等层状材料的生长，用于显示和半导体制造、通信和MEMS（微机电装置）等多种应用。反应堆装有两个独立的基座，允许一个在另一个装卸时进行处理。该机还具有一个可调摆臂淋浴头，它提供了整个基板完美的均匀性。该反应堆还具有300-1000 °C的高温范围，从而在极低的压力需求下提高了增长率，使得该工具非常适合需要高度精确和可控条件的工艺。CRIUS 31 X 2是用于研究、开发和应用程序的完美解决方桉,需要高度可定制的流程,使客户的规范能够轻松定制以满足其流程要求。