二手 AIXTRON Crius 31x2 #293587444 待售

AIXTRON Crius 31x2是一种市售的反应性离子蚀刻设备，设计用于基材的精确和可重复加工。它配备了提供高吞吐量和可重复结果的先进过程控制系统。其用户友好的控制面板提供了对整个蚀刻过程的精确控制。该单元配备了强大的31千瓦横向RF电源，独特、高度精确、专业化的直接蚀刻室，以及可靠的机器人机器，用于装载和卸载基板。专有的横向RF电源配备了13.56 MHz的高输入电压频率，可在6.0至30 W之间进行调节，允许精确控制蚀刻速率。蚀刻过程由控制器监控和调整，该控制器支持非接触式控制，即使基板较小，也能确保精确和可重复的结果。此外，创新的、高精度的直接蚀刻工艺室设计在最大限度地减少功耗的同时仍提供大的均匀蚀刻腔深度。AIXTRON CRIUS 31 X 2由于具有很高的工艺稳定性和可重复性，非常适合大批量生产和工业应用。它能够在10分钟内以精确和可重复的方式蚀刻多达100个晶圆，晶圆尺寸可达200毫米，蚀刻深度大于20 μ m。此外，它还配备了预测过程控制和实时数据记录的软件包。此外，它还与标准的COTS工艺配方和燃气箱兼容。Crius 31x2附有一个机器人，既可用作蚀刻室中的载体，也可用作前装载室中基板处理的托盘。这为在一个工艺周期内处理多达40个晶片提供了极好的灵活性,从而提高了吞吐量。卸载和装载过程的高定位精度减少了停机时间,从而实现了不间断的生产过程。总体而言,CRIUS 31 X 2非常适合蚀刻和大批量生产应用程序,并且具有一系列功能,可最大限度地提高生产效率。它的精确度和可重复性使其成为所需应用程序的可靠工具。