二手 AIXTRON Crius 31x2 #293587450 待售

AIXTRON Crius 31x2是为半导体工业的薄膜材料生长而开发的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备。该系统包括一个31厘米x 2厘米的工艺室和一个用于薄膜生长的尖端技术，包括一个新设计的射频/直流磁控管源、两个石英石英淋浴头、两个工艺气体入口、两个工艺压力控制阀、一个软件驱动的等离子体控制单元和一个工艺气体分析仪。PECVD机的设计旨在对沉积区的温度、工艺气体浓度、喷头功率和化学成分等沉积参数进行精确的控制和调节。它还能够选择有利于过滤的物种，以提高工艺效率。射频/直流磁控管源是一种先进的设计，它结合了传统射频源与直流源的特点，提供了更好的控制反应物气体电离的能力。该工具利用一个石英淋浴头和一个石英crucible来形成薄膜。这些成分通过允许等离子体区内沉积参数的均匀组合来维持膜的均匀性。它还有两个过程气体入口和两个过程压力控制阀，以便对气体流动进行精确控制。此外，该资产还包括软件驱动的等离子体控制模型，其中包括用于过程气体和温度控制的控制系统。热处理工艺室采用先进的设计，优化后可最大限度地减少颗粒污染，提供适合形成优质薄膜的环境。工艺参数、自动化监控设备、射频/直流磁控管源和石英熔炉的组合，确保了系统能够提供最佳的工艺控制和极均匀的薄膜生长区。该装置还具有广泛的安全功能，包括自动净化室机器、用于限制气体污染的二氧化硫控制工具和用于防止电气危险的地面故障中断装置资产。此外，该模型还配备了工艺气体分析仪，以监测沉积区的组成，并确保膜生长的均质环境。AIXTRON CRIUS 31 X 2设备为各种薄膜材料的PECVD增长提供了可靠准确的平台,非常适合各种制造需求。其高效的设计为高质量半导体材料的生产提供了无与伦比的性能，确保了半导体器件制造行业的最高质量和可靠性标准。