二手 AIXTRON Crius 31x2" #293587451 待售
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AIXTRON Crius 31x2是在半导体工业中为生长薄膜和纳米结构而设计的下一代反应堆。Crius 31x2利用MOCVD（金属-有机化学气相沉积）沉积专门为半导体应用设计的材料层。该反应堆在312nm的波长和高达1000 °C的底物温度下运行。Ge、Si化合物、P化合物的多重来源在中心反应室中汽化，可以独立控制。这允许根据用户规范在高度、密度和厚度上操纵材料层。Crius 31x2反应堆还具有可编程石英电池模块化加热设备，可使基材更有效地加热到指定温度。该系统有助于减少反应室加热时间，从而缩短加工周期，提高工艺产率。此外，冷却装置和温度控制风扇有助于保持反应室的温度一致，最大限度地减少沉积过程中的变化。Crius 31x2配备了先进的射频电源和反馈机，以优化等离子体均匀性和沉积速率。低压MOCVD工具具有反应物的储存和供应功能，可用于连续流动或高达38.4毫升/分钟的体积。反应堆中包含一个现代的基于Windows的软件，允许监视、数据记录和实时控制多个过程参数。Crius 31x2反应堆的最大载荷为31个1英寸底物和一个扩大室，以容纳更大的底物。该反应堆耗电量为3kW，尺寸为500 mm H x 610mm W x 1800mm L，重量为350 kg。Crius 31x2是生长半导体薄膜和纳米结构的可靠、高效且经济实惠的选择。
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