二手 AIXTRON Crius 31x2 #293650409 待售
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AIXTRON Crius 31x2是为半导体工业中的应用而设计的工艺反应堆。它是一种具有双区域沉积的远程等离子体，专门为MBE和VPE生长过程而设计。作为双区域设备,AIXTRON CRIUS 31 X 2允许对主室和辅助过程室进行独立的温度控制。主室通常用于MBE，即使在高压条件下也能加工各种温度均匀的材料。这种温度均匀性是可能的，这要归功于腔室的均匀热壁设计，其中包括一个三轴石墨插件，用于有效的热隔离。这种设计还最大限度地减少了对环境的热量泄漏，提高了系统的效率。辅助室一般用于气相沉积技术如VPE。它采用与内部电极的远程感应耦合形成等离子体，产生具有广泛等离子体功率的高度均匀的等离子体，与高端PECVD和ICP源相当。该室的冷壁设计也保证了良好的隔热性能，消除了沉积区的热梯度。这样可以确保稳定的高沉积速率和层质量。Crius 31x2也极具弹性，支撑着广泛的基材、晶圆和基材持有者。它的多用途装载室能够优化基板的加热和冷却，以及沉积不同扩散长度和基板材料密度的材料。它还具有无菌装卸，确保清洁、无污染的过程。为了最大限度地提高工艺效率，CRIUS 31 X 2配备了多种传感器，包括温度传感器和光发射传感器。这些系统可监控热力条件,并能够精确控制沉积层,即使在热力或组合物快速过渡期间也是如此。最后，该单元还为用户方便而设计。它内置的控制和监控机器直观且用户友好，允许轻松操作、数据记录和工具诊断。这确保了生产过程和顶级结果的完全可重现性。
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